판매용 중고 VARIAN VIISta MC80 #9282294

VARIAN VIISta MC80은 VARIAN Semiconductor Equipment Associates, Inc.의 이온 임플란터 및 이온 모니터입니다. (VSEI). 이 장비는 반도체 및 MEMS 부품의 이식 및 모니터링에 사용하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 80kV tandem 가속기를 사용하여 높은 에너지 이온 빔을 만듭니다. 이 "이온 '광선 은" 가속기' 의 여러 정전기 "렌즈 '에 초점 을 맞추고 여러" 디플렉터' 에 의하여 원하는 "빔 '크기 와 모양 으로 조작 된다. 장치 (unit) 는 개별 컴포넌트 매개변수를 설정하고 모니터링할 수 있도록 사용자 인터페이스에 의해 제어됩니다. VIISta MC80에는 빔 전류 (beam current), 빔 모양 및 크기, 사각형 및 원형 빔의 스팟 크기를 기록하는 다양한 빔 전류 모니터가 장착되어 있습니다. 이를 통해 빔의 매개변수를 정밀하게 제어할 수 있고, 컴포넌트를 임플랜트할 때 정밀도를 높일 수 있습니다. 또한, 기계는 구성 요소에 손상이 발생하지 않도록 광범위한 안전 측정 (예: 빔 리미터) 을 포함합니다. VARIAN VIISta MC80은 붕소, 비소, 인 및 실리콘에 이르기까지 광범위한 물질을 이식하는 데 사용될 수 있습니다. 더우기, "빔 '전류" 모니터' 의 범위 를 적절 한 "컴퓨터 '" 프로그램' 과 함께 사용 하면, 이식 된 재료 와 원하는 용량 을 모두 정확 하게 제어 할 수 있다. 게다가, 이 도구는 임플란트의 상태를 실시간으로 모니터링하고, 문제가 되기 전에 모든 문제를 감지할 수 있습니다. VIISta MC80 은 자동화된 웨이퍼 (wafer) 전송 메커니즘으로 높은 처리량을 발휘합니다. 즉, 시간당 최대 200 개의 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 그것 은 "임플란터 '실 에서 달성 할 수 있는 공기 청결 의 결과 로 오염 수준 이 낮은데, 이것 은" 임플란터' 실 에서 이루어질 수 있으며, 이것 이 처리 되는 구성 요소 들 의 수율 이 높다는 것 을 의미 한다. VARIAN VIISta MC80은 높은 품질의 결과를 지속적으로 제공할 수있는 신뢰할 수있는 자산입니다. 다른 용도에 맞게 다양한 옵션을 제공하여 다양한 부품 (component) 과 재료 (material) 를 이식하는 데 적합합니다. 이 모델은 사용자 친화적 (user-friendly) 으로, 문제나 중재 없이 장기간 실행할 수 있습니다. 반도체와 MEMS 업계에서 사용되는 임플란트 (Implant) 를 만들고 모니터링하는 데 매우 적합합니다.