판매용 중고 VARIAN VIISta 810Xer #9215997

VARIAN VIISta 810Xer (VAR VIISta 810Xer) 는 최첨단 이온 임플란터 및 모니터링 장비로, 이온 임플란트 프로세스를 완벽하게 제어하여 사용자가 최첨단 기술을 손쉽게 생성할 수 있습니다. 반도체 및 MEMS 제작 프로세스에 사용하도록 설계되었으며, 이온 이식 프로세스에서 높은 정확성과 반복 성을 제공합니다. 이 시스템은 빔 전류 (beam current), 에너지 레벨 (energy level), 스팟 크기 (spot size) 및 기타 매개변수를 포함한 다양한 조정 가능한 매개변수를 가진 고급 이온 소스로 구동됩니다. 이를 통해 사용자는 이온 (ion-implanting) 프로세스를 손쉽게 조정하여 정확한 요구 사항을 충족하는 기술을 만들 수 있습니다. 또한, 이온 검출기 (ion detector) 가 장착되어 있으며, 최대 10A의 전류에 민감하며, 프로세스 모니터링에 탁월한 정확성을 제공합니다. 이 장치는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 사용자가 단일 화면에서 작업을 손쉽게 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 또한, 컴퓨터에는 실시간 데이터 획득 도구 (real-time data acquisition tool) 가 포함되어 있어 매개변수를 수동으로 조정하지 않고도 임플란트 매개변수를 최적화할 수 있습니다. 또한, 종합적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 를 통해 한 화면에서 임플란테이션 프로세스를 시각화할 수 있습니다. 이 자산은 효율성과 신뢰성을 극대화할 수 있도록 설계되었습니다. 다양한 온도 범위 호환성을 갖춘 혁신적인 저압 임플란트 챔버 (low-pressure implant chamber) 를 통해 성능 손실 없이 다양한 온도에서 임플랜테이션을 수행 할 수 있습니다. 또한, 이 모델은 포괄적인 장비 진단 제품군 (diagnostics suite) 을 제공하여 구성 요소 장애를 신속하게 파악하고 문제를 해결할 수 있습니다. VARIAN VIISTA 810 XER는 최고 수준의 이온 임플란터 및 모니터링 시스템으로, 뛰어난 정확성과 안정적인 성능을 제공합니다. 고급 이온 소스 (ion source) 및 통합 모니터링 장치 (integrated monitoring unit) 를 사용하여 반도체 및 MEMS 구성 프로세스에 이상적이며, 이온 임플란트 프로세스에 대한 뛰어난 제어를 제공합니다.