판매용 중고 VARIAN Viista 810 #62638

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ID: 62638
Medium current ion implanter, 8" CE Marked Energy Range: 5 – 810 keV Dose Range: 1xe11 – 1xe16 Programmable Tilt Angle: +/- 60deg Source Type: IHC Source Tungsten Cassette Interface: 2 Bolt-On Asyst LPT-2200 PRI Robot Handler Chuck Type: Gas Cooled ESC (Composite Platen) Options: Low Energy upgrade Thru Beam Wafer Mapping system DELL Server (IAN) VESDA Smoke Detector system (Laser Plus) GEM / SECS Std Network Comm. Capability End Station Cryo Pumps: Process Chamber: 3 Brooks/Helix OB-250F Scan Chamber: Brooks/Helix OB-250F Turbo Pumps: Source Turbo: Pfeiffer TPH 521 YP without Gate Valve Service PC Beam Line Turbo: Pfeiffer TPH 521 YP Left Load-Lock: Pfeiffer TPH 521 YP Right Load-Lock: Varian V300C Gas Configuration: AsH3 - SDS PH3 - SDS BF3 - SDS Ar (N2) - HP XE (N2) - HP Software: NCS / IAN: Win2k pro VCS: v 6.70 SP3 V 208, 3-Phase, Freq 50Hz 2001 vintage.
VARIAN Viista 810은 통합 이온 임플란터 및 모니터입니다. 이온 임플란트 기술, 바리안 (VARIAN) 분야의 리더들이 개발했으며, 고도로 전문화 된 부문에서 60 년이 넘는 경험을 바탕으로, 비스타 810 (Viista 810) 은 이온 이식 및 모니터링의 중요한 영역에서 향상된 기능을 제공합니다. 핵심에서 810은 고성능 이온 임플란터입니다. 이 "에너지 '는 여러 종 과" 에너지' 를 광범위 한 재료 로 대단 히 정밀 하게 이식 할 수 있으며, 그 어느 때 보다도 처리량 이 대단 히 높다. 고도로 집중된 빔 (beam), 가속 전압 (accelerated voltage) 및 고급 광학 (optics) 을 사용하여 810은 시장의 다른 기계와 비교할 때 더 높은 범위의 제어 및 정확도를 제공합니다. 또한, 810은 최대 400 밀리램프의 총 전류 부하로 초당 최대 40 이온을 이식 할 수 있습니다. 그러나 VARIAN Viista 810이 실제로 뛰어난 것은 인상적인 모니터링 기능입니다. 이 기계는 in-situ beam 광학 방출 분광학 (IOES) 센서를 사용하여 실시간 성능으로 Ions 및 기타 빔 특성의 에너지를 측정합니다. 이러한 수준의 제어를 통해 VARIAN은 고급 제어 알고리즘 (advanced control algorithm) 을 개발, 구현하여 임플란트 레이어의 균일성과 재현성을 보장합니다. 또한, 810에는 아트 고도 제어 시스템 (state of art altitude control system) 이 장착되어 있습니다. 최대 가속 전압을 최대 30kV까지 확장함으로써 비스타 810 (Viista 810) 은 일정한 빔 각도 제어를 보장하며, 회전 추적으로 더 높은 정확도 (높은 경사에서도) 를 제공합니다. 이 최첨단 시스템은 또한 위험한 빔 (beam) 조건이 감지되면 자동 차단 (auto-off) 을 통해 임플랜테이션 중 안전성이 향상됩니다. 이를 통해 인적 오류 위험을 줄이고, 운영 효율성과 품질을 크게 향상시킬 수 있습니다. 요약하면, VARIAN Viista 810은 통합형 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 시장의 다른 모델과 비교할 때 향상된 제어 및 정밀도를 제공합니다. 인사이트 빔 광학 방출 분광학 센서 (in-situ beam optical emission spectroscopy sensor) 와 자동 차단 안전 기능으로 전례없는 제어 수준을 제공하며, 결국 이식 중 인간 오류의 위험을 줄이는 데 도움이됩니다.
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