판매용 중고 VARIAN Viista 810 #193756
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판매
ID: 193756
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2000
Medium current implanter, 12"
Specifications:
VIISTA 810 End Station (includes polished load lock chambers)
Standard power kit
(3) High voltage warning display
Tungsten Bernas gas ion source
Bernas source Dual vaporizer
Standard Gas Box, external inert purge
External Argon (position #1)
SDS BF3 gas card (UY Bottle) (position #2)
SDS Arsenic gas card (JY Bottle) (position #3)
SDS Phosphorus gas card (JY Bottle) (position #4)
Pigtail select
External inter purge gas facility
Minimized Gas mix manifold
Bottle adapters
Rotating Mass slit assembly
Water-cooled CTI 9600 Cryogenic compressors (2 each) onboard
Chiller unit for wafer chuck (R507 refrigerant)
Xenon Gas for PFS flood gun (Lecture bottle)
Scanning faraday
12" Wafer Chuck
Dose Processor Assembly
Dose Controller
Profiler Drive Assembly
VCS Computer system
Plasma Flood Gun Kit
Closed Loop Faraday assembly
Manometer kit, 3 readouts
Spectra RGA Hardware integration
PMS particle monitoring hardware integration
Varian control system software: Rev 03.03.0118
Configuration Software Viista 810 Rev M1 config 503
SECS / GEM communication capable
Cryo Pumps:
(3) CTI 250F for endstation
(1) CTI 250F for beam-line
Roughing Pumps:
(1) Edwards iQDP40 in HV Terminal
(1) Edwards iQDP80/QMB500 for endstation
(1) scroll pump for differential seals
Turbomolecular Pumps: Varian ICE turbo pump kit
V700 on the filter, V300 on the source
Vesda Smoke Alarm System, Model VLC-500 detector
Currently installed
2000 vintage.
VARIAN Vista 810은 고성능 이온 임플란터 (ion implanter) 이며 이온을 기판으로 정확하고 안정적으로 임플란트하기 위한 모니터입니다. 첨단 기술 (Advanced Technology) 을 통해 광범위한 애플리케이션에 가장 정확하고 정확하게 이온을 구현할 수 있습니다. Vista 810은 사용자 지정 스캔 장비를 사용하여 스캔 균일성과 정확성을 보장하며, 탁월한 이식 품질을 제공합니다. Vista 810은 다양한 임플란트 응용 프로그램을 처리할 수 있습니다. 이것 은 인상적 인 "빔 '의 균일성 과 정확성 으로, 고급 반도체 공정 개발 이나 생산 에 이상적 이다. 이 시스템은 자기 제한 이온 빔, 절연 이온 빔, 입자 빔 스캔 등 다른 VARIAN 이온 임플란터 기술을 활용하도록 설계되었습니다. 비스타 810 (Vista 810) 은 다양한 에너지에서 광범위한 이온 종을 제공하는 고급 초고전압 이온 소스를 특징으로합니다. 이 소스는 기존 소스보다 훨씬 높은 임플란테이션 정확도를 제공합니다. 이 장치에는 이온의 위치를 측정하는 고급 이온 빔 프로파일 모니터 (advanced ion beam profile monitor) 도 포함되어 있습니다. 이 모니터를 사용하면 빔 프로파일의 모든 왜곡을 신속하게 감지할 수 있습니다. 또한 Vista 810은 임플란트 (implant) 프로세스를 향상시키기 위해 설계된 다양한 기능을 지원합니다. 이 기계는 가변 조리개 (variable aperture) 와 광학 컴포넌트 (optical component) 와 같은 추가 요소를 사용하여 최적화된 실험을 수행하는 등 다양한 빔 라인 (beam line) 구성을 구현할 수 있습니다. Vista 810은 고급 데이터 수집 및 분석 기능도 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 다양한 재료의 임플란트 프로파일을 정확하게 특성화하여 성능을 높일 수 있습니다. 전반적으로 Vista 810은 고급 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 뛰어난 임플란테이션 정확도와 균일성을 제공합니다. 다양한 기능과 기능을 통해 고급 반도체 (Semiconductor) 및 생산 (Production) 프로세스에 적합합니다. 고급 스캔 도구, 고전압 이온 소스 (high-voltage ion source), 데이터 수집 및 분석 기능을 갖춘 Vista 810은 다양한 임플란트 (implant) 어플리케이션에 대한 안정적인 임플란테이션과 모니터링 기능을 제공합니다.
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