판매용 중고 VARIAN VIISta 810 HP #9051773
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판매
ID: 9051773
빈티지: 2003
Ion implanter
Wafer Shape SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer Cassette 8" Plastic Miraial
SMIF Interface NO
Power Distribution 208V 60Hz 75KVA 3phase Y-connection
Control System 1GHz Computer
Software Version Number V810hp 06 71 38
Gasbox1 Ar HP external supply
Gasbox2 N/A (SDS)
Gasbox3 ASH3 SDS
Gasbox4 PH3 SDS
Gasbox5 BF3 HP
(6) Cryo pump CTI CT-250F
(3) Cryo Compressor CTI 9600
(2) Ebara A10S Roughing Pumps
(1) Varian triscroll300 Roughing Pump
TMP Edwards STPH301C
TMP2 Edwards STPH803C
TMP3 varian HT-300
TMP4 varian HT-300
Ion Source Dual Filament Bernas type
Dual Vaporizer Nothing
Beam Reducer Nothing
Platen E-CLAMP
Beam Energy:
5-250keV (Signle charged Ion)
250-500keV (Double charged Ion)
500-750keV (Triple charged Ion)
Auto Accel/Decel mode
208 V, 50/60 Hz, 3-Ph, 5-Wires, 35 kVA, 97 FLA
2003 vintage.
VARIAN VIISta 810 HP는 다양한 프로세스 제어 및 기계 공학 응용 프로그램에 사용되는 고성능 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이온 이식 (ion implantation) 과 관련된 다양한 프로세스를 정확하게 모니터링하고 제어하도록 설계된 고급 장비입니다. 제조사 들 이 최고 수준 의 효율성 과 정확성 을 유지 할 수 있게 해 주며, 그 결과 "에너지 '는 품질 이나 수량 을 희생 할 필요 없이 원하는" 에너지' 효과 를 얻게 된다. VARIAN VIISTA 810HP는 이온 이식 (implantation) 을 위한 효율적이고 신뢰할 수있는 도구로서, 이식 용량, 빔 스팟 크기, 에너지 설정 등 다양한 매개변수를 쉽게 제어 할 수 있습니다. 또한 Multi-Process 및 Memory 사전 설정을 사용한 신속한 사전 프로그래밍, 실시간 현재 용량 모니터링, 반복 가능한 결과를 위한 프로세스 자동화 등 고급 기능을 제공합니다. VIISta 810 HP는 또한 유연성 (Flexibility) 과 견고성 (견고성) 으로 유명하며, 다양한 재료의 이식, 다양한 기판의 정제 등 다양한 응용 분야에 사용될 수 있습니다. 또한 VIISTA 810HP는 뛰어난 빔 제어 (beam control) 및 장비 모니터링 기능을 제공하여 사용자가 작업을 최적화할 수 있도록 합니다. 빔 제어는 정확한 이식 매개변수를 허용하는 반면, 시스템 모니터링 기능은 이식 속도, 빔 각도 (Beam Angle), 전압, 전류 등과 같은 다양한 데이터를 제공합니다. 이 포괄적인 장치에는 다양한 안전 (Safety) 기능도 포함되어 있어 사용자가 가장 안전하고 신뢰성을 보장할 수 있습니다. VARIAN VIISta 810 HP는 최고 수준의 정확도, 속도, 유연성 및 안전을 제공하는 고급 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 광범위한 머신 엔지니어링 (Machine Engineering) 및 프로세스 제어 (Process Control) 애플리케이션을 위해 설계되었으며, 어떠한 작업에서도 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 이 제품은 다양한 프로세스 해결, 효율적인 모니터링, 고급 시스템 제어를 통해 모든 환경에 이상적인 솔루션이 됩니다.
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