판매용 중고 VARIAN VIISion 80 #9181390
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판매
ID: 9181390
Ion implanter, 8"
Vacuum pump:
Terminal dry pump type: terminal, Edwards iQDP80
Chamber dry pump type: terminal, Edwards iQDP80
L/L dry pump type: V300HT
Gas system:
Gas / Connection Type
Gas channel #1: AsH3 gas SDS, 3.4L high pressure
Gas channel #2: PH3 gas SDS, 3.4L high pressure
Gas channel #3: Ar gas high pressure, 3.4L high pressure
Gas channel #4: BF3 gas high pressure, 3.4L high pressure
PFG gas: Xe gas CGA580
Utility:
Supply type: bottom
Compressor: CTI 8500
Wafer handler: enhancement type
Main monitor: LCD
Exhaust: duct box
Source head: Bernas
Tilter +/- 7 degrees, signal tower
Missing parts:
L/L chamber turbo pump
Elevator3 digital I/O PCB
(4) Chamber cryo pumps
Disk assy
Source turbo controller
E/S controller CPU boards
Source turbo pump
1995 vintage.
VARIAN VIISion 80은 이온화 된 재료의 생산 및 이온 임플란트 프로세스 모니터링을 위해 설계된 이온 임플란터 및 모니터입니다. 이것은 일반적인 반도체 재료에서 고급 화합물 반도체 (advanced compound semiconductor) 에 이르기까지, 여러 응용 분야에 대해 설계된 광범위한 도핑 프로파일을 처리하는 데 사용되는 도구입니다. 또한, VIISion 80은 최적의 이온 임플란트 프로세스 제어에 탁월한 처리 속도, 정밀도 및 정확성을 제공합니다. VARIAN VIISion 80은 두 가지 구성 요소, 즉 이온 빔 생성기와 제어 콘솔로 구성됩니다. 이온 빔 생성기는 저손실, 신뢰성, 저소음 및 저진동 이온 소스로, 이온 임플란트 프로세스를 매우 안정적으로 만듭니다. 이 이온 소스는 임플란트의 정확한 제어를 가능하게하기에 충분히 안정적인, 거의 연속적인 이온 빔을 생성 할 수있다. 제어 콘솔은 임플란터의 명령 및 제어 센터이며, 임플란트 프로세스 제어, 모니터링 및 실행을 담당합니다. 이는 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 와 PLC (Programmable Logic Controller) 로 구성되며, 사용자가 임플란트 매개변수를 제어하고, 임플란테이션 프로세스를 모니터링하고, 나중에 검토할 결과를 저장할 수 있도록 합니다. VIISion 80은 최첨단 제작 기술과 정교한 계측으로 사용자 최대의 프로세스 제어를 제공합니다. 임플란팅의 최고 품질과 정확성을 보장하기 위해 VARIAN VIISion 80은 여러 소스 기술을 사용하여 빔 안정성 (beam stability) 및 임플란트 용량의 탁월한 정확성과 반복 성을 향상시킵니다. 다중 소스 (multiple source) 기술은 또한 소스의 수명을 향상시키고 전반적인 프로세스 신뢰성을 향상시킵니다. VIISion 80은 또한 우수한 이온 임플란트 선택성을 제공하여 광범위한 도핑 정권으로 미세하게 튜닝 된 도핑 프로파일을 허용합니다. 이를 통해 사용자는 유례없는 수준의 유연성, 임플란트 (implant) 프로세스를 제어할 수 있습니다. VARIAN VIISion 80은 또한 최대 빔 전류가 최대 3.5A 인 고류 빔을 제공 할 수 있습니다. 또한 Control Console 의 인터페이스를 통해 빔 전류 및 전압 수준을 실시간 제어할 수 있습니다. 결론적으로, VIISion 80은 최고의 프로세스 제어와 정확성을 제공하도록 설계된 고급 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터입니다. VARIAN VIISion 80은 다중 소스 기술 및 고전류 빔 전달 (high-current beam delivery) 과 같은 기능을 제공하여 임플란트 프로세스를 최대한 유연하고 제어합니다. 또한, 직관적인 제어 콘솔 인터페이스를 통해 쉽게 임플란트 제어, 모니터링 및 검토를 수행할 수 있습니다.
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