판매용 중고 VARIAN VIISion 80 #9065690

VARIAN VIISion 80 (VARIAN VIISion 80) 은 반도체 장치의 제작에 탁월한 결과를 제공하기 위해 설계된 고성능 이온 임플란터입니다. 장비는 정확하고 반복 가능한 용량 제어를 제공하는 고급 빔 시스템을 사용합니다. VIISion 80은 높은 주파수와 정확도로 이온을 실리콘 웨이퍼에 이식 할 수 있습니다. 여기에는 다양한 프로세스의 매개변수 (parameter) 를 빠르게 조정할 수 있는 다양한 기능이 포함되어 있습니다. VARIAN VIISion 80은 뛰어난 반복성을 제공하며 6의 정확도를 제공하는 고해상도 이미징 장치 (high-resolution imaging unit) 를 기반으로 제작되었습니다. 이미징 머신은 다양한 응용 프로그램에서 매우 정밀한 이온 빔 (ion beam) 제어를 가능하게하는 높은 다이내믹 레인지 (dynamic range) 를 특징으로합니다. 또한, 이 도구는 다양한 반도체 장치에 대한 광범위한 주파수 (range frequency) 조작을 수행 할 수 있습니다. VIISion 80 은 강력하고 효율적인 빔 (beam) 전달 자산을 제공하여 광범위한 임플란테이션을 제공합니다. 뛰어난 정확성과 반복성으로 빠른 속도로 이온을 임플란트 할 수 있습니다. 이 모델은 동적 범위의 이온 에너지 (dynamic range of ion energy) 를 사용하여 적절한 이온이 올바른 위치에 이식되도록 합니다. VARIAN VIISion 80에는 빔과 도핑 매개변수를 정확하게 모니터링 할 수있는 정교한, 매우 민감한 모니터링 장비가 포함되어 있습니다. 시스템은 이식 속도, 용량 속도, 빔 각도, 웨이퍼 각도 및 기타 데이터를 분석 할 수 있습니다. 모니터링 장치 (monitoring unit) 는 또한 낮은 수준의 기판 손상을 감지하여 사용자가 중요한 프로세스 문제에 신속하게 대응할 수 있습니다. VIISion 80 은 또한 정교한 데이터 처리 및 분석 머신 (analysis machine) 을 통해 높은 수준의 정확성과 제어를 가능하게 합니다. 고급 통계 데이터 분석 기능 (advanced statistical data analysis features) 이 포함되어 있으며, 다양한 프로세스에 대한 매개변수를 빠르게 조정할 수 있습니다. 또한, VARIAN VIISion 80에는 이식 용량의 계산을위한 고급 소프트웨어가 포함되어 있으며보다 정확한 임플랜테이션이 가능합니다. VIISion 80 은 고급 반도체 전자제품의 성공적인 구현을 위한 강력하고 비용 효율적인 솔루션입니다. 매우 정확한 이미징, 빔 전달 (beam delivery) 및 모니터링 시스템을 통해 뛰어난 결과를 제공하는 정밀 임플란트를 제공합니다. 다용도 데이터 처리 및 분석 툴을 통해 모든 반도체 (semiconductor) 제작 프로세스에 적합한 솔루션을 선택할 수 있습니다.