판매용 중고 VARIAN VIISion 80 #9039557

VARIAN VIISion 80은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 생산에 사용하기위한 높은 에너지, 높은 처리량 이온 임플란터입니다. 그것 은 "이온 '의" 임플란트' 용량, "에너지 '및 유창 함 이 단단 하고 정확 하게 조절 되어야 할 응용 을 위하여 설계 되었다. VIISion 80 (ViISion 80) 은 다양한 빔 구성으로 다양한 재료를 이온 (ion) 으로 이온 (ion) 으로 이온을 이식하는 것으로, 뛰어난 균일성과 반복성을 제공합니다. VARIAN VIISion 80은 테트 로드, 평행 전자 총 및 분할 빔 음극 배열을 사용하여 최대 80kW의 이온 이온 이식 에너지를 제공합니다. 총은 5 ~ 200kV의 중성 에너지에서 작동하며 최대 15mA 빔 전류를 제공합니다. 총은 2 ~ 254 amu 범위의 이온을 전달할 수 있으며, 에너지 범위는 100 keV에서 최대 80kV입니다. 이온 빔 스팟 크기는 0.3-1.0mm 사이에서 구성 할 수 있습니다. 이 장비는 안정적이고, 반복 가능하며, 매우 정확한 임플란트 기능을 제공하는 대용량 전원 모듈을 갖추고 있습니다. 또한 사용자 정의 가능한 임플란트 프로파일을 제공하여 최적화된 이온 임플란트 작업을 수행할 수 있습니다. 이 시스템에는 스캐닝 빔 전류 제어 (scanning beam current control) 가 포함되어 있으며 반복 가능하고 균일 한 임플란트 결과를 얻을 수 있습니다. VIISion 80은 또한 백그라운드 전류, 챔버 성능, 빔 전류 (beam current) 및 임플란트 균일성 (implant unifority) 을 측정 및 제어 할 수있는 독특한 모니터링 장치를 갖추고 있습니다. 이 모니터링 시스템은 고정밀도, 반복 가능한 임플란트 작동을 보장하는 데 중요합니다. 모니터 도구 (Monitor Tool) 는 운영자에게 이상 또는 오류를 경고하는 수많은 자체 진단을 제공합니다. 마지막으로, VARIAN VIISion 80은 안전을 염두에두고 설계되었으며, 높은 전압 부품에 대한 액세스를 차단하는 안전 연동 자산 (Safety Interlock Asset) 과 적절한 전기 안전을위한 지상 연결 (Ground Connection) 을 갖추고 있습니다. 이 모델에는 몇 가지 하드웨어/소프트웨어 구성요소가 포함되어 있는데, 이 구성요소는 신뢰성 있는 작동을 보장하고 손상 위험을 줄일 수 있도록 설계되었습니다. 결론적으로, VIISion 80은 매우 정확한 이온 임플란터이며, 광범위한 에너지에 이온을 전달하고, 독특한 모니터링 장비를 활용하여 반복 가능하고 균일 한 임플란트 연산을 보장 할 수 있습니다. 이 시스템은 작동이 간단하지만, 신뢰성이 높고 안전합니다. 최첨단 전원 공급 장치를 사용하는 VARIAN VIISion 80은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 생산에 적합합니다.