판매용 중고 VARIAN / GENUS G1510 #9011839

VARIAN / GENUS G1510
ID: 9011839
웨이퍼 크기: 8"
High energy implanter, 8" Pumps are missing.
VARIAN/GENINE G1510은 이온 임플란터 및 모니터로, 이온 임플란테이션을위한 혁신적인 기능을 제공합니다. 이 제품은 이온 이식 프로세스의 생산 및 모니터링에 사용되는 하이엔드 (High-End) 디바이스입니다. GENUS G1510은 정확성과 반복성을 유지하면서 향상된 이온 임플란테이션 처리량을 위해 설계되었습니다. 정확성과 반복 성을 위해 매우 정확한 빔 전류 제어 장비를 제공합니다. 이 장치에는 이식 프로세스를 최적화하는 고급 빔 진단 시스템 (advanced beam diagnostics system) 도 포함되어 있습니다. VARIAN G 1510은 오염이 적은 높은 처리량을 위해 설계되었습니다. 낮은 전류, 중간 전류 및 높은 전류를 생성하기 위해 세 가지 빔라인 구성을 제공합니다. 이를 통해 다른 응용 프로그램에 대해 고도로 구체적인 빔을 구현 할 수 있습니다. 이 장치는 프로그래밍 가능한 프로세스 제어를 제공하는 GENIS 자동 제어 및 모니터링 장치와 통합됩니다. 이 기계에는 빔 최적화를위한 도구 에너지 관리 패키지가 포함되어 있습니다. 자산은 또한 에치 (etch) 프로세스에 대한 포괄적인 이해를 위해 강력한 데이터 획득 및 분석 모델을 제공합니다. VARIAN/GENINE G 1510에는 2 개의 통합 빔라인 관리 시스템이 있습니다. 첫 번째 장비 는 "빔 '의 방향 과" 에너지' 를 지도 하고 감시 하며, 두 번째 장비 는 이식 된 종 들 의 가속 과 충전 을 관리 한다. 이를 통해 매우 정확한 이식 및 모니터링이 가능합니다. 이 장치에는 고급 챔버 설계 (Advanced Chamber Design) 가 포함되어 있으며 극단적 인 조건에서 작동하도록 설계되었습니다. 고온 "스테인리스 '" 스틸 챔버' 는 착상 과정 을 안전 하고 정확 하게 수행 할 수 있게 해 준다. G 1510은 또한 포괄적 인 이식 스위트를 제공합니다. 이 제품군에는 임플란테이션 프로세스를 자동으로 제어, 모니터링, 분석할 수 있는 소프트웨어/하드웨어 패키지가 포함되어 있습니다. 이 소프트웨어에는 손쉬운 작업을 위한 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface for Easy Operation) 가 포함되어 있으며, 프로세스의 사양이 없어지면 자동으로 경고하는 특수 기능이 포함되어 있습니다. 전반적으로, GENUS G 1510은 정확성과 반복성을 위해 매우 안정적이고 효율적인 이온 임플란터 및 모니터입니다. 첨단 설계 기능과 자동화된 제어/모니터링 기능으로, 높은 처리량과 정확한 임플랜테이션을 위한 최적의 선택이 됩니다.
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