판매용 중고 VARIAN / GENUS G1510 / G1520 #9209301

GENUS G1510 & G1520 Ion Implanter & Monitor는 다양한 재료에 이온을 이식하는 데 사용되는 최첨단 충전 입자 가속기입니다. 이 고도로 모듈식, 컴퓨터 제어 시스템에는 이온 소스 (ion source) 와 빔 모니터링 카메라 (beam monitoring camera) 가 모두 포함되어 있어 이온 이식 공정의 정확한 제어 및 정확성을 제공합니다. 이온 소스는 아르곤, 산소, 인, 실리콘을 포함한 다양한 종의 이온을 생성하는 듀오 플라스 마트론 소스입니다. 이 소스는 광범위한 이온 에너지와 빔 전류 강도를 가능하게하며, G1510 및 G1520은 에너지 적응 임플란테이션 또는 에너지 확산 임플란테이션과 같은 다양한 유형의 이온 임플란테이션에 적합하며, RF MEMS 또는 레이더 민감성 MEMS. 이온 빔을 감지하고 모니터링하는 데 빔 모니터링 카메라 (beam monitoring camera) 를 사용할 수 있으므로 운영자가 원하는 설정을 확인하고 이식 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 카메라는 빔 스팟 크기 (beam spot size), 빔 전송 (beam transmission), 빔 오정렬 (beam misalignment) 과 같은 다양한 빔 매개변수에 대한 피드백을 제공할 수도 있습니다. 이를 통해 이식 공정의 연산자 제어가 개선되어 원하는 이온 용량 (ion dose) 이 달성되도록 돕습니다. G1510 및 G1520 시스템은 매우 자동화되어 있으며, 내장된 운영자 인터페이스를 통해 모든 장치 매개변수 및 시스템 기능에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 또한 사용자 인터페이스는 경고 (alarm) 및 모니터링 (monitoring) 기능을 제공하여 시스템을 원격으로 모니터링 및 조정할 수 있습니다. 또한, 내장 교정 모듈은 각 소스에 대해 자동 정렬을 가능하게 하며, 각 실행에 대해 정확한 이온 임플란테이션을 보장합니다. G1510 및 G1520은 개방형 프레임 설계와 폐쇄형 프레임 설계로 제공되며, 기존의 실험실 및 OEM 응용 프로그램 모두에 설치할 수 있습니다. 또한, 이 시스템은 CE 및 SEMI 2336과 같은 다양한 안전 및 운영 표준을 충족하도록 설계되었습니다. 전반적으로 VARIAN G1510 및 G1520 Ion Implanter & Monitor는 고성능, 다용도 시스템이며, 다양한 에너지에서 다양한 이온을 정확하게 이식 할 수 있습니다. 카메라 (camera) 와 교정 모듈 (calibration module) 과 같은 자동화된 기능이 추가되면서 용도가 더욱 향상되어 작동 제어 및 안전성이 향상되었습니다. 다양한 어플리케이션 및 다양한 기능을 통해 G1510 및 G1520은 임플랜테이션 어플리케이션을 위한 매우 효율적이고, 안정적이며, 비용 효율적인 솔루션이 됩니다.