판매용 중고 VARIAN / GENUS 1520 #293642980
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VARIAN/GENAIN 1520 이온 임플란터 및 모니터는 이온을 반도체 재료에 이식하기위한 고급 시스템입니다. 그것 은 "이온 '전달 을 정확 하게 조절 하여 서로 다른" 임플란트' "에너지 ', 종," 로트' 크기 및 용량율 을 사용 할 수 있다. 속 1520 (GENUS 1520) 은 또한 완전한 자동화 옵션을 갖추고 있으며, 최소 운영자 참여로 여러 임플란트를 수행 할 수 있습니다. 이 시스템은 매우 정확한 용량 제어를 제공하여 반복 가능한 임플란트 용량을 허용합니다. 이를 통해 사용자는 일관된 결과로 임플란트를 생산하여 실리콘 기판에 대한 값비싼 입자 손상 위험을 줄일 수 있습니다 (영문). 바리안 1520 (VARIAN 1520) 에는 최신 모니터링 및 프로세스 소프트웨어가 장착되어 있어 고급 이온 임플란테이션을위한 포괄적인 도구가 됩니다. 1520은 GENUS Rexolite 및 SHI Thalium 대상의 RF 기반 고 전력, 고전압 능력을 사용합니다. 이를 통해 열 손상이 최소화되어 높은 전류 배달 및 높은 기판 도핑 속도가 가능합니다. 이온 소스 어셈블리 (ion source assembly) 는 목표물에 이온을 공급하며 한 쌍의 추출 전극, 소스 및 스캔 코일로 구성됩니다. 스캔 코일 (scan coil) 은 임플란트의 프로파일링에 사용되며, 국소화된 임플란트 프로파일을 달성하기 위해 최적화 될 수 있습니다. VARIAN/GENUS 1520은 또한 질량 분석, 전하 스트리핑 및 다중 종 임플란트와 같은 다양한 이온 선택 (격리) 옵션을 특징으로합니다. 질량 분석 옵션 (Mass analysis options) 을 사용하면 특정 이온 종을 선택할 수 있으며, 전하 스트리핑 (charge stripping) 옵션을 사용하여 오염 된 기판 도핑을 줄일 수 있습니다. 다중 종 임플란트 (Multiple Species Implant) 옵션을 사용하면 두 개 이상의 종을 이식 할 때 정확성과 반복성이 향상됩니다. GENUS 1520은 복잡하고 고품질 마이크로 일렉트로닉 장치를 만드는 강력한 시스템입니다. 다양한 자동화 (automation) 및 임플란트 제어 (implant control) 기능을 통해 품질 웨이퍼를 생산할 수 있습니다. 기판 손상이 최소화 된, 반복성이 높은 임플란트를 생산하려는 사용자에게 이상적인 선택입니다.
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