판매용 중고 VARIAN E500 #9229634

VARIAN E500은 반도체 산업에 사용되는 다재다능한 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 높은 정밀도, 속도 및 정확도를 제공합니다. 0.1 MeV ~ 90 MeV 범위의 에너지가있는 다양한 기판에 이온을 이식 할 수 있습니다. VARIAN E 500은 고급 빔 스캐닝 장비와 지능형 광학 기술 (Optics Technology) 을 사용하여 용량, 균일성 및 용량 비율을 효과적으로 제어합니다. 이 기술은 또한 붕소, 인, 비소 및 기타와 같은 이온 종을 사용할 수 있습니다. E-500 시스템은 사용하기 쉽고 에피 택시 실리콘 (epitaxial silicon), 기판 활성화, 실리실화 (silicidation) 및 표면 수동화 (surface passivation) 및 도핑 (doping) 과 같은 기타 재료 이식 응용 프로그램과 같은 반도체 장치 제조의 주요 프로세스에 대한 신뢰할 수있는 플랫폼을 제공합니다. E500 이온 임플란터 및 모니터는 다양한 진공 시스템에서 효율적으로 작동하도록 설계되었습니다. 모듈식 (modular) 설계를 통해 사용자는 선택 프로세스의 요소를 포함하는 진공 장치 (vacuum unit) 를 선택할 수 있습니다. 이를 통해 일관된 프로세스 제어와 정확성이 보장됩니다. E 500 기계는 또한 지능형 진공 (Intelligent Vacuum) 기술을 지원하여 챔버 조건과 초고압 (Ultra How Pressure) 에 도달하는 효율적인 운전 능력을 지속적으로 모니터링합니다. VARIAN E-500 은 향상된 수율, 높은 신뢰성, 보다 효율적인 프로세스 제어를 제공하는 정교한 관리/제어 툴을 갖추고 있습니다. VARIAN E500 은 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공하므로 프로세스 레시피를 빠르고 정확하게 만들고 수정할 수 있습니다. 에셋에는 다용도 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 포함되어 있어 임플란트 레시피를 빠르게 시각화하고 편집 할 수 있습니다. 또한 이 모델을 사용하면 실시간 데이터로 임플란트 결과를 추적하고 분석할 수 있습니다. 다양한 프로세스 기능 외에도, VARIAN E 500 에는 발생할 수 있는 모든 문제를 신속하게 해결할 수 있는 여러 진단 툴이 내장되어 있습니다. 이러한 진단 도구는 장비의 문제와 결함을 신속하게 파악하고, 신속한 정류 (Recortification) 또는 수정 (Corrective) 작업을 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 전반적으로 E-500 은 안정적이고 견고한 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 다양한 기판에 이온 및 기타 재료를 이식할 수 있는 향상된 프로세스 기능을 제공합니다. 이 시스템은 손쉽게 작동할 수 있도록 설계되었으며, 안정적이고 정확한 성능과 더불어 정밀한 용량 제어 (dose control) 및 균일성 (unifority) 을 위한 지능형 광학 기술을 제공합니다. 또한 E500 은 지능형 모니터링 및 제어 기능을 지원하므로 임플란트 레시피를 손쉽게 만들고 수정할 수 있으며, 임플란트 성능을 실시간으로 모니터링하고, 잠재적인 문제를 신속하고 효율적으로 해결할 수 있습니다.