판매용 중고 VARIAN E500 #9206611
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ID: 9206611
빈티지: 1993
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left, right
No CVCF Option
System vacuum:
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump & (3) controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beamline TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beamline TMPC
CTI / 250 / Endstation C/P
CTI / 8500 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / 5020+boost / End station dry
Process gas:
AsH3: HP Type, VCR 1/2"
PH3: HP Type, VCR 1/2"
BF3: HP Type, VCR 3/8"
Ar(N2): HP Type, CGA 580 (Non gas line)
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~70 keV
Acceleration power supply: 0 keV ~ 180 keV
Power supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 70kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply (decel): 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator controller: -30kV, 10mA
Mirror: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5 kV, 5 mA
Scan trek power supply: 30 kV
Isolation transformer assy: 70 kV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
No beam energy probe
No 2 step beam reduser
No auto deceleration
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 psi
N2: 40~150 psi
Cooling water: 60~150 psi
Temperature: 4~21°C
Power: 208VAC, 3-Phase, 5 Wires, 43.2kVA, 120FLA
1993 vintage.
VARIAN E500은 반도체 장치 제작, 플라즈마 에치 (plasma etch) 및 이온 이식 프로세스에 사용하도록 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 고에너지 이식 (implantation) 애플리케이션뿐 아니라 장치 수준 제어를 달성하기 위한 다용도 도구다. 또한 VARIAN E 500 (Varian E 500) 은 다양한 유형의 이식 프로세스에서 사용할 수있는 다양한 프로세스 및 제어 기능을 제공합니다. 이 시스템은 특허를받은 3 중 접합 설계를 사용하여 이온을 정확하게 이식합니다. 이식되는 샘플을 정확하게 배치하기 위해 이중 축 (dual-axis) 스테이지 설계를 갖추고 있습니다. 이것은 기계식 인코더 (mechanical encoder) 와 온보드 컴퓨터 (on-board computer) 를 사용하여 이루어지며, 이식 시 적절한 영역에서 샘플을 정확하게 찾을 수 있습니다. E-500은 비소, 붕소, 인 및 안티모니를 이식 할 수 있습니다. 또한 고 에너지 이식 구조에 인을 이식하는 데 사용될 수 있습니다. 이 (E500) 는 제조업체가 모든 종에 대해 이식 파라미터 (implantation parameter) 를 설정하고 광범위한 데이터를 추적 할 수 있도록 광범위한 복용량을 제공 할 수 있습니다. 임플란테이션 (implantation) 프로세스를 모니터링하도록 특별히 설계되었으며, 샘플의 오작동 또는 불완전성을 감지할 수 있습니다. 이는 가능한 손상을 방지하는 데 도움이되며, 그렇지 않으면 완료된 제품에 돌이킬 수 없는 손상이 발생합니다. 또한 각 이식 주기 동안 챔버 (chamber) 내의 온도를 모니터링하고 필요에 따라 조정할 수 있습니다. VARIAN E-500 은 혁신적인 원격 액세스 기능으로, 사용자가 어디서나 시스템을 모니터링할 수 있습니다. 이 기능은 이식하는 동안 물리적으로 기계에 있을 수 없는 사람들에게 유용합니다. 이 기능을 통해 수동 입력 (manual input) 을 원격으로 수행할 수 있으며, 이식 프로세스 동안 수집된 데이터를 원격으로 액세스할 수 있습니다. 전반적으로, E 500 은 높은 에너지 확립 및 확립 프로세스를 위한 강력하고 안정적인 임플랜테이션 및 제어 도구입니다. 광범위한 프로세스와 제어 (Control) 기능을 제공하며, 원격 액세스 기능을 통해 임플란테이션 매개변수를 보다 쉽게 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 이를 통해 VARIAN E500은 반도체 장치 제작, 플라즈마 에치 및 이온 이식 프로세스에 이상적인 도구가됩니다.
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