판매용 중고 VARIAN E500 #293625917

VARIAN E500은 반도체 제조에 사용되는 고정밀 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 빔 파워가 10kW ~ 30kW 범위의 이중 가속기 프로세스가 특징입니다. 가속 입자 빔은 전자적으로 조정되고 신뢰성이 높으며, 사용자는 각 임플란트의 용량, 에너지, 프로파일을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 고급 이온 임플란터는 다재다능하며, 고 도핑에서 하위 임계 값 임플란트에 이르는 임플란트에 사용될 수 있습니다. VARIAN E 500에는 신뢰할 수 있는 빔 모니터 (beam monitor) 및 현장 (in-situ) 진단 기능도 포함되어 있어 사용자가 장비로부터 최적의 성능을 얻을 수 있습니다. 하드웨어 측면에서 E-500은 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 구성된 완전 진공 챔버가있는 진공 조임 시스템입니다. 상위 장치에는 이온 소스, 추출 어셈블리 및 고정밀 4축 모듈레이터가 포함됩니다. 이 변조기 는 "빔 '이 정확 하게 초점 을 맞추고 방향 을 맞추는 데 필수적 이다. 아래 부분은 샘플 스테이지가 있는 위치이며, XY 동작 테이블 (XY motion table) 을 사용하여 샘플의 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. 이 기계는 또한 스캐너 어셈블리 (scanner assembly) 를 특징으로하여 샘플 챔버에 들어가는 이온 빔을 제어합니다. 이 스캐닝 어셈블리에는 빔을 편향시키기 위해 최대 4 개의 전기 처짐 코일 (electrical deflection coil) 이 있으며, 이를 통해 서브 미크론 해상도까지 정밀도가 낮아집니다. 또한 VARIAN E-500에는 자동 매개 변수 설정, 프로파일 최적화 및 데이터 획득을 제공하는 실험 제어 하위 시스템이 있습니다. 소프트웨어 측에서, 이 도구는 Microsoft Windows 기반 운영 자산을 실행하여 안정적인 성능을 보장합니다. 이 소프트웨어는 사용자가 설정 (setup) 유연성을 제공하며, 빔을 매개변수화하고 챔버 조건을 모니터링할 수 있습니다. 또한 각 임플란트의 용량과 에너지를 보여주는 데이터 분석 (data analysis) 기능도 제공합니다. 안전성 측면에서, 모델에는 수냉식 이온 소스가 장착되어 있는데, 이 이온 소스는 장비에 이온을 구축하여 E 500 (E 500) 의 안전한 작동을 보장합니다. 결론적으로, E500은 강력하고 신뢰할 수있는 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터이며, 가장 까다로운 것조차 처리 할 수 있습니다. 이를 통해 정확한 빔 제어, 현장 진단, 자동 데이터 입수 (automated data acquisition) 기능을 통해 임플란트 프로세스를 최적화할 수 있습니다. 장비와 소프트웨어의 조합은 사용자가 시스템에서 최적의 성능 (performance) 을 얻고 있으며, 안전하고 효율적입니다.