판매용 중고 VARIAN E500 HP #9230820

VARIAN E500 HP는 고급 이온 임플란터 및 모니터입니다. 전자 부품 제조를 위해 반도체 재료에 이온 이식 및/또는 모니터링 (monitoring ion) 에 사용됩니다. VARIAN E500HP는 100kV 에너지 해상도 (energy resolution) 형태의 고성능 정밀도와 용량 (dose rate) 출력의 신뢰성이 높은 안정화를 제공하여 뛰어난 이식 프로세스를 제공합니다. 또한 내장 HP 모니터는 용량율 (dose rate), 에너지 확산 (energy spread), 생성된 이온의 특이성 (specularity) 과 같은 이식 프로세스에 긍정적으로 영향을 미치는 매개변수의 분석 및 추적을 제공합니다. E-500HP 는 다양한 옵션을 제공하며, 특정 요구 사항에 맞게 장비를 조정할 수 있습니다. 통합 자동 제어 시스템 (Integrated Automated Control System) 을 사용하면 극한의 작동 상태에서도 가장 최적의 임플란트 매개변수를 달성하도록 장치를 사용자 정의할 수 있습니다. 이 머신은 사용하기 쉽고 직관적인 그래픽 방식 사용자 인터페이스 도구 (user interface tools) 와 직관적인 트리 뷰 (tree view) 데이터 디스플레이 (implantation analysis) 를 제공합니다. VARIAN E 500 HP는 단일 축, 이중 축 및 4 축 빔 소스를 포함하여 최적의 임플란트 제어를 위해 빔 소스 파워를 선택할 수 있습니다. 고급 열 관리 기술 (Advanced thermal management technology) 은 사용자가 제어된 빔 소스의 잠재력을 극대화하는 동시에, 일정한 빔 전원 수준을 보장합니다. 입자 수송 도구 (옵션) 는 반도체 부품의 처리량을 높일 수 있도록 안정적이고 반복 가능한 수율을 제공합니다. 또한 업계 표준에 대한 임플란트 준수를 개선할 수 있습니다. E 500 HP에는 완전 자동 현장 감지 에셋이 장착되어 있습니다. 이 모델은 임플란트 (Implant) 프로세스의 끝을 높은 정밀도로 감지하도록 설계되었습니다. 이 장비는 VARIAN E-500 HP 로 이식된 모든 구성요소가 최고의 품질 및 안정성 표준과 함께 일관되게 제공됩니다. 또한 생산성 극대화를 위해 설계된 다양한 "액세서리 (accessory) '를 활용할 수 있습니다. 여기에는 자동 로딩 및 웨이퍼 언로드 (unloading) 를 위한 웨이퍼 처리 로봇, 처리량 증가, 수동 웨이퍼 처리 제거 등이 포함됩니다. 다른 액세서리로는 챔버 내 웨이퍼의 정밀 배치를위한 지그 (Jig) 와 적절한 프로세스 실행을 보장하기위한 잠금 시스템 (Locking System) 이 있습니다. E500HP는 사용자에게 고급 이온 이식 시스템을 제공합니다. 사용이 간편한 인터페이스, 직관적인 트리 디스플레이, 자동화된 제어, 안정적인 현장 내 엔드포인트 감지 (in-situ endpoint detection) 기능을 갖춘 이 장치는 비용 효율적이고 안정적인 정밀 이온 임플랜테이션 및 모니터링 방법을 제공합니다. 다양한 액세서리와 결합된 VARIAN E-500HP는 다양한 옵션을 제공하여 최적의 임플랜테이션 (implantation) 프로세스를 보장합니다.