판매용 중고 VARIAN E220HP #9279486

VARIAN E220HP는 반도체 제조 공정에 사용되는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 고압 가스원 (gas source) 과 함께 사용될 때 다양한 임플란트 이온을 기판으로 빠르고 정확하게 이식 할 수있는 혁신적인 장비다. VARIAN E220 HP에는 이온을 정확하게 측정하는 모니터 (모니터) 와 이온을 정확하게 배치할 수있는 정렬 시스템 (정렬 시스템) 이 포함되어 있습니다. E 220 HP는 기질 표면을 임플란트 이온으로 폭격 할 수있는 에너지를 제공하는 전자 폭격 (EB) 소스를 특징으로합니다. 이 "에너지 '수준 을 조정 하여 원하는" 이온' 농도 와 "에너지 '수준 을 달성 하여 이식 된" 이온' 을 철저 히 조절 할 수 있다. 또한, 고급 레이저 정렬 시스템을 사용하여 전체 시스템을 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이 로 말미암아 "임플란터 '는" 이온' 을 기판 표면 에 빠르고 정확 하게 정렬 시킬 수 있게 되어, 착상 과정 에 대한 제어력 을 증가 시킨다. VARIAN E 220 HP는 이온을 기판에 이식 할 때 일관되고 신뢰할 수있는 빔을 보장하기 위해 2 차 방출 기술을 사용합니다. 이 기술 은 "이온 이플란터 '에 균일 한" 이온' 광선 을 공급 해 주며, 이식 된 "이온 '이 표적 표면 에 균등 하게 퍼지게 한다. 또한, E220 HP는 이식 된 이온을 추가로 개선하는 데 사용될 수있는 다양한 이식 전략을 제공합니다. 이러한 전략은 눈사태 분리 (avalanche detune) 에서 Klystron 가속에 이르기까지 다양하며 특정 이식 목적을위한 다양한 기능을 제공합니다. 마지막으로, E220HP는 여러 임플란테이션 시퀀스를 동시에 실행할 수 있는 고속 (high-speed) 프로세서를 사용하여 여러 기판을 병렬로 이식할 수 있습니다. 이 프로세서는 또한 임플랜터가 최대 500msec의 초고속 이식 속도에 도달 할 수 있습니다. 또한, 대용량 데이터를 저장할 수 있으므로 임플랜테이션 맵 (Implantation Map) 과 결과 (Result) 에 대한 데이터를 손쉽게 회수하고 자동으로 분석할 수 있습니다. 전반적으로 VARIAN E220HP는 강력하고 다재다능한 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 반도체 제조 공정에서 향상된 제어 및 정확성을 제공합니다. 높은 수준의 사용자 정의 및 병렬 임플란테이션을 제공함으로써, VARIAN E220 HP는 모든 기질이 원하는 이온으로 정확하고 균일하게 이식되어 우수한 결과를 얻을 수 있도록 합니다. 높은 처리 속도와 데이터 스토리지 기능을 갖춘 이 이온 임플란터 (ion implanter) 와 모니터 (monitor) 는 반도체 업계에서 귀중한 도구입니다.