판매용 중고 VARIAN E220 #9237371

VARIAN E220 (VARIAN E220) 은 전기적 특성을 변경하기 위해 하전 입자의 영역을 반도체 물질로 정확하게 배치 할 수있는 고급 이온 임플란터 및 모니터입니다. 이온 임플란터 (ion implanter) 는 다재다능하며 산업 및 연구 환경에서 다양한 응용 분야에 사용될 수 있습니다. VARIAN E-220의 주요 메커니즘은 이온 원 (ion source) 으로, 가스 또는 고체 소스에서 꾸준한 하전 입자 스트림을 생성하는 데 사용됩니다. 이 "이온 '광선 은 일련 의 자기" 렌즈' 와 "펄스 '동력 장치 에 의하여 조향 되고 가속 되며, 이것 은" 빔' 입자 의 강도 와 "에너지 '를 결정 한다. 그런 다음, 이 "빔 '을 지향 하여 표적 물질 이나 기판 에 집중 시켜서, 양전하 또는 음전하 입자 를 표적 물질 로 정밀 하게 증착 시킨다. E 220 은 다양한 고급 모니터링/제어 시스템을 갖추고 있어 이식 조건이 일관되고 정확한지 확인합니다. 여기에는 빔 전류 (beam current) 의 변형을 보상하기위한 보상 시스템, 표면 프로파일을 측정하기 위해 샘플 영역을 스캔하기위한 스캔 탐지기 (scan detector) 및 빔 강도 (beam) 강도 및 에너지 수준을 설정하기위한 제어 시스템 (control system) 이 포함됩니다. 추가 기능에는 빔의 입자를 모니터링하기위한 현장 분석 시스템 (in-situ analysis system) 과 운영 매개변수 및 데이터 로깅을 제어하기위한 CPU (Central Processing Unit) 가 포함됩니다. VARIAN E 220은 다양한 응용 프로그램의 기판에 이온을 이식하는 데 매우 효율적이고 신뢰할 수있는 도구입니다. 고정밀 임플란트를 생성 할 수 있으며, 이는 도핑 (doping), 활성화 (activating), 박막 패시브 (passivating thin film) 와 같은 다양한 반도체 프로세스에 사용될 수 있습니다. 모니터링 시스템은 용량 (dose), 에너지 (energy), 스팟 크기 (spot size) 와 같은 임플란트 매개변수를 보다 효과적으로 제어하여 일관된 고품질 결과를 제공합니다. 사용 편의성 및 다양한 기능을 통해 E220 은 업계/학술 프로세스에 이상적인 선택이 됩니다.