판매용 중고 VARIAN E220 #9230245
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판매
ID: 9230245
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1994
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower
Production wafer: (2) Wafers (P.P+ type)
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left & right (P.P+ type)
CVCF Option: Interlock
System vacuum:
Ion source chamber: 1.1E-6T
Beamline chamber: 8.5E-7T, 4.2E-7
End station chamber: 1.8E-7
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
Controller
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Make / Model / Description
EBARA / 40x20 / Terminal dry
LEYBOLD / Mag W 1300 / Source TMP
LEYBOLD / Mag Drive / Source TMPC
PFEIFFER / - / Resol. TMP
PFEIFFER / - / Resol. TMPC
PFEIFFER / TMH 520 IS / Beamline TMP
PFEIFFER / - / Beamline TMPC
CTI / Cryotorr / End station C/P
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Left loadlock
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Right loadlock
EBARA / 40x20 / End station dry
CTI / 9600 / Cryo compressor
Process gas:
High pressure:
AsH3
PH3
Ar(N2)
BF3: SDS X2
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 40kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Crucible (Vaporizer) power supply: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
Gas box type: 2-High pressure bottle, 2-SDS Insert
Source type: Bernas no vaporizer
Utilities:
Power: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 45 kVA, 120 FLA
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, temp: 4~21°C
1994 vintage.
VARIAN E220은 반도체 산업에서 설계 된 박막 생산에 사용되는 최첨단 이온 임플란터 모니터입니다. 이 장비는 자체 보정 (self-correcting) 방법을 사용하여 프로세스 전체의 용량 변화를 모니터링하면서 정확한 이온 배치를 보장합니다. VARIAN E-220은 이온 소스, 임플란터 챔버, 투약 모니터 등 3 가지 구성 요소를 사용합니다. 이온 소스는 샘플을 향해 빔에서 이온을 가속화하는 데 사용된다. 임플란터 챔버 (implanter chamber) 는 샘플을 수용하고 전기 장 (electrical field) 을 유도하여 이온이 챔버를 통과 할 때 작용합니다. 이 전기 분야는 이온의 에너지와 방향을 결정하는데, 이는 정확한 공학 박막에 필수적입니다. 용량 모니터 (dose monitor) 는 프로세스의 원하는 값을 초과하지 않도록 이온 (ion) 의 용량을 제어 및 모니터링하는 데 사용됩니다. E 220에는 이온 빔 (ion beam) 의 전압 수준을 제어하기위한 전원 공급 장치와 빔의 전원, 위치, 강도를 모니터링하는 센서 어레이 (array of sensor) 가 포함되어 있습니다. 이 "시스템 '은 또한 어떤 범위 내 에 있는 것 들 만 통과 할 수 있도록" 입자' 의 확산 을 조절 하는 장치 를 갖추고 있다. 이렇게 하면, 그 과정 에 사용 된 입자 들 이 "박막 '생산 에 필요 한" 파라미터' 내 에 있게 된다. 마지막으로, VARIAN E 220은 쉽고 직관적인 작동이 가능한 고급 지능형 제어 장치 (Intelligent Control Unit) 로 설계되었습니다. 이를 통해 연산자는 박막 (Thin Film) 제작에 필요한 매개변수를 쉽게 설정하고 값을 수동으로 조정하지 않고도 프로세스를 면밀히 모니터링할 수 있습니다. 전반적으로, E220은 이온 배치 및 용량, 고급 제어기 (Advanced Control Machine), 센서 어레이에 대한 정확한 제어 덕분에 설계된 박막 제작에 효과적이고 안정적인 도구입니다. 이 도구를 통해 제조업체는 최소한의 비용과 노력으로 씬 필름을 정확하게 엔지니어링 할 수 있습니다.
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