판매용 중고 VARIAN E19002442-2 #9011782

VARIAN E19002442-2 Ion Implanter and Monitor는 고급 임플랜터 및 모니터링 장비로, 이온 이식 응용 프로그램에 사용됩니다. 이온 이식 프로세스에 대한 정확한 제어 및 모니터링을 제공합니다. 이 기능을 통해 효율적이고 안정적이며 반복 가능한 하이엔드 이온 이식 작업이 가능합니다. 모니터링 시스템은 고급 분광법 (High-End Spectrometry) 으로 구성되며, 이온 종 (Ion Species) 과 용량의 정확한 측정이 가능하며 이식 과정에서 달성됩니다. 이 장치는 상세한 실시간 프로세스 모니터링 (Real-Time Process Monitoring) 기능을 통해 이식 프로세스를 통해 원하는 결과를 얻을 수 있습니다. "임플란터 '에는 자동" 빔' 전류 조정기 가 장착 되어 있어서, 이식 된 "이온 '의 종 에 따라" 빔' 전류 를 효율적 으로 조정 할 수 있다. 이것 은 이식 되고 있는 "이온 '들 이 원하는 용량 과 종 을 운반 하는" 이온' 들 임 을 보장 해 준다. 또한 자동화된 샘플 (sample) 포지셔닝 에셋이 포함되어 있어 정확하고 반복 가능한 샘플 포지셔닝이 가능합니다. 이를 통해 이식 영역을 자체 좌표 모델 (coordinate model) 에 대해 이식체 (implanter) 의 뷰 필드에 정확하게 배치할 수 있습니다. 장비에는 샘플 매핑을위한 스캐너도 포함되어 있습니다. 이를 통해 사용자는 임플란트 밀도 (implant density) 와 종 (species) 을 매핑하여 임플란트 프로세스에 대한 고급 제어를 제공 할 수 있습니다. 또한, 시스템은 원하는 뷰 (field of view) 와 관련하여 임플란트 영역의 최적의 위치를 지정할 수 있는 필드 정렬 장치 (field alignment unit) 도 포함합니다. E19002442-2 이온 임플란터 (Ion Implanter) 및 모니터 (Monitor) 는 이러한 기능 외에도 고급 진단 기능을 제공하여 임플란트 프로세스에 대한 상세 자동 원격 모니터링을 지원합니다. 이렇게 하면 이식 과정에서 발생할 수 있는 문제를 파악하고 필요한 경우 시정 (corrective) 조치를 취할 수 있습니다. 또한 진단 기능은 임플란트 프로세스에 대한 예측 제어 (Predictive Control) 및 오류 완화 (Error Mitigation) 기능을 제공하여 프로세스 성능을 최적의 수준으로 유지하는 데 도움이 됩니다. 전반적으로 VARIAN E19002442-2 Ion Implanter and Monitor는 하이엔드 ion 이온 이식 응용 프로그램을 위한 강력하고 신뢰할 수있는 이온 임플랜터 및 모니터링 기계입니다. 임플란트 (Implant) 프로세스에 대한 정확한 제어 및 모니터링, 그리고 효율적이고 효율적인 이식 작업을 위한 고급 진단 기능을 제공합니다. 정교하고 자동화된 기능은 안정적이고 반복 가능한 임플란트 (implant) 프로세스를 제공하여 원하는 임플란트 결과를 달성하는 데 도움이 됩니다.