판매용 중고 VARIAN E17220280A #9001753

VARIAN E17220280A 는 다기능 이온 임플란터 (implanter) 및 모니터로, 증가하는 반도체 시장에 비용 효율적이고 안정적인 솔루션을 제공합니다. 이 장비는 정교한 하드웨어와 소프트웨어를 결합하여 높은 정확도, 높은 처리량 이온화를 생성합니다. 분석테스팅· 웨이퍼생산, 메인스트림 (MainStream)· 고급 반도체산업 (Advanced Semiconductor Industries) 등의 요구를 충족할 수 있다. E17220280A 이온 임플란터는 고출력 전자 총에 의해 생성 된 자기장을 사용하여 소스 재료를 정확하게 이온화합니다. 이 프로세스는 소프트웨어를 통해 신중하게 제어되고 모니터링되며, 이식 각도, 입자 에너지, 임플란트 용량, 조리개 설정을 제어할 수 있습니다. 결과는 낮은 수준의 결함을 가진 매우 정확하고 재현 가능한 이식 된 표면입니다. 이 시스템에는 최첨단 온도 조절 장치 (Temperature Control Unit) 가 장착되어 있어 보다 안정적이고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 또 하나 의 큰 액체 질소 "풀 '은 노출 된 물질 을 최적 으로 냉각 할 수 있으며, 그 로 인해 혹독 한 환경 에서도 더 높은 정확도 와 처리량 을 얻을 수 있다. 이 기계는 또한 더 나은 정확도와 실시간 용량 모니터 (real-time dose monitor) 를 위한 고급 빔 제어 (advanced beam control) 기능을 제공하여 임플란트가 원하는 매개변수 내에 유지되도록 합니다. 이 도구의 모니터 트랙 (monitor track) 은 결함 및 불순물에 대한 기판을 선별할 수 있으며, 이는 고품질 반도체 개발에 도움이됩니다. 또한 웨이퍼 지형이나 프로파일, 두께, 컬, 평평, 그레인 크기 등에 대한 자세한 도량형 정보를 제공합니다. 또한 다양한 현장 (in-situ) 청소 절차를 수행하여 결과의 품질과 연속성을 보장할 수 있습니다. 자산 아키텍처는 개방형/모듈형으로, 고객별 업그레이드 및 조정이 가능합니다. 이온 임플란터에는 안전 실드 (safety shield) 가 포함되어 있어 사용자가 고에너지 빔이있는 경우 작동 할 수 있습니다. 다양한 표준 인터페이스를 통해 유연성이 더욱 향상됩니다. 결론적으로 VARIAN E17220280A 이온 임플란터 및 모니터는 반도체 생산을 위해 정확하고 재현 가능한 고속 이온화를 제공합니다. 정교한 기술은 최고 수준의 성능을 보장하는 반면, 대형 액체 질소 풀 (Litrogen Pool) 및 실시간 도량형 모델 (Metrology Model) 은 안정적이고 고품질 임플란테이션을 허용합니다. 이 장비는 사용자가 이식 프로세스를 최소한의 노력과 위험 (risk) 으로 제어할 수 있게 해 주며, 프로젝트의 유연성과 신뢰도를 높여줍니다.