판매용 중고 VARIAN E11321240 #293615588

VARIAN E11321240은 산업, 정부 및 과학 응용 분야를 위해 설계된 고급 이온 임플란터 및 모니터입니다. 광범위한 임플란트 에너지, 각도, 에너지를 만들 수 있습니다. 다양한 유형의 고도로 제어 임플랜테이션 프로파일을 만드는 데 사용할 수 있습니다. E11321240은 최대 400mA의 티타늄 이온 전류를 생성하는 펄스 또는 연속 티타늄 빔 소스 (pulsed 또는 continuous titanium beam source) 를 특징으로하여 최대 5 미크론의 이식 깊이를 제공합니다. 통합 압력측 전원 공급 장치는 임플란트 임플란트 프로파일 매개변수와 함께 빔 전원 (beam power) 과 빔 전압 (beam voltage) 을 전송합니다. VARIAN E11321240 모니터는 이온 이식 프로세스를 측정하고 모니터링하도록 설계되었습니다. 빔 전류 (beam current) 와 에너지 (energy), 펄스 너비 (pulse width) 및 반복 속도 (repetition rate), 빔 스캔 패턴 및 확대, 기타 다양한 주요 이식 매개변수를 측정 할 수 있습니다. 모니터에는 빔 궤적, 임플란트 프로파일 데이터, 임플란트 값, 기타 다양한 데이터 포인트도 표시됩니다. 임플란트 (Implant) 프로세스의 모든 단계를 제대로 따르는지 확인하는 데도 사용될 수 있습니다. E11321240은 수동 또는 자동 모드에서 작동할 수 있습니다. 수동 (Manual) 모드를 사용하면 매개변수를 입력할 수 있으며 임플란트 프로세스를 보다 효과적으로 제어할 수 있습니다. 자동 (Automatic) 모드를 사용하면 자동으로 임플란테이션 프로세스를 수행할 수 있으므로 운영 환경에 적합합니다. 모니터 (Monitor) 는 사용자가 이식 프로세스 (Implantation Process) 요구 사항에 맞게 사용자정의할 수 있는 사전 정의된 매개변수 배열도 제공합니다. 이 장치의 크기는 54cm x 98cm x 20cm이며 무게는 130kg 이상입니다. 견고한 설계에도 불구하고, VARIAN E11321240은 설치와 실행이 비교적 쉽고, 유지 보수가 거의 필요하지 않습니다. 전반적으로 E11321240은 효율적이고 효과적인 이온 임플란터이며 산업, 정부, 과학 분야에 이상적인 모니터입니다. 놀라운 이식 제어와 강력한 모니터를 갖춘 VARIAN E11321240은 이식 프로세스를 이전보다 더 단순하고, 예측 가능하며, 정확합니다.