판매용 중고 VARIAN E11120773 #293658045

VARIAN E11120773은 VARIAN Semiconductor Equipment에서 제조 한 정교한 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 더 큰 임플란트 및 모니터 시스템의 일부로, E11120773은 주로 중량 및 대용량 반도체 어셈블리 프로세스에 사용하기위한 것입니다. 즉, 대상 요소의 제어 양을 웨이퍼에 도입하여 작동합니다. "임플란테이션 '은 진공 상태 에서 수행 되어, 공정 에서 생성 되는" 이온' 이 표적 기질 에 정확 하게 도달 하도록 한다. 이 다용도 기계 (versatile machine) 는 다양한 요소를 구현할 수 있으며, 특정 생산 프로세스의 특정 요구 사항에 맞게 조정되도록 설계되었습니다. 이 장치의 사용자 인터페이스 (user interface) 는 사용자 친화적이며, 매우 직관적이며, 쉽게 설치 및 작동할 수 있습니다. 장치의 주요 구성 요소에는 고성능 스퍼터 소스 (sputter source) 와 이온 모니터 (ion monitor) 패키지가 포함됩니다. 스퍼터 소스 (sputter source) 는 필요한 에너지에서 이온 스트림을 생성하고 모니터 (monitor) 패키지는 프로세스 매개변수를 최적화하기 위해 임플란테이션 프로세스 데이터를 모니터링합니다. 이식된 요소는 일반적으로 외부 소스 (external source) 에서 가져온 것으로, 모니터를 보정하여 올바른 요소가 정확하고 정확하게 이식되도록 할 수 있습니다. 이 장치에는 실시간 이식 피드백 (implanter feedback) 및 시스템 진단 (system diagnostics) 과 같은 다양한 기능이 추가로 장착되어 있습니다. 이 피드백을 통해 연산자 오류의 가능성을 크게 줄일 수 있습니다. 고급 진단 (Advanced Diagnostic) 패키지에는 다양한 통계 상관 관계 엔진 (Correlation Engine) 이 포함되어 있어 이식된 모든 요소가 이식 전에 올바르게 준비되어 있는지 확인합니다. 이렇게 하면 과잉 충전 (excess charge) 구축을 방지할 수 있으며, 이식된 재료가 원하는 기술 사양에 부합하는지 확인합니다. VARIAN E11120773 (VARIAN E1112073) 도 구성 가능하며, 각 프로세스 실행에 최대 4 개의 임플란트 및 각 특정 임플란트와 관련된 다양한 매개 변수를 설정할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 임플란테이션 프로세스가 안전하고 최소한의 운영자 (operator) 가 관여할 수 있도록 안전 기능이 내장되어 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 E11120773은 보다 복잡하고 까다로운 프로세스 환경에서 고품질의 임플란트를 생산할 수 있는 탁월한 선택입니다 (영문). 이 장치는 최고 수준의 품질 (Quality) 과 신뢰성 (Reliability) 을 바탕으로 제작되었으며 이미 반도체 생산을위한 이식 및 모니터링 솔루션 (Implantation and Monitoration Solution) 의 선두 기업으로 자리 매김하고 있습니다.