판매용 중고 VARIAN E11081190 #9107061

VARIAN E11081190은 반도체 제조 공정에 사용되는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 분석 도구 (analytical tool) 로 기능하여 전자 기기에 사용되는 부품을 제조하는 데 사용되는 도펀트 이온 (dopant ion) 의 정밀하고 반복 가능한 용량을 제공합니다. E11081190 (E11081190) 에는 광범위한 현재 장치에 필요한 도펀트 (dopant) 이온을 정확하게 제어하고 전달하는 이온 소스가 장착되어 있습니다. 내부 소스는 가열된 텅스텐 필라멘트 (tungsten filament), 추출 시스템 (extraction system) 및 정적 이온으로 구성되어 이온화 효율을 극대화합니다. 이온 빔은 다중 조리개 시스템 (multi-aperature system) 을 통해 최대 100 keV의 에너지로 가속되어 높은 전류 밀도를 유지하면서 빔 확산을 줄입니다. 이온 빔 전류 밀도는 최대 1mA의 전류를 측정 할 수있는 패러데이 컵 (Faraday cup) 을 통해 모니터링됩니다. 전류 반응 (current response) 과 드리프트 보정 (drift corrections) 은 이온 임플란터의 빔 에너지와 전류를 자동으로 조정하여 이온의 미리 결정된 용량을 유지하면서 빔 봉투를 동시에 조정합니다. VARIAN E11081190 (VARIAN E11081190) 은 자동 정렬 기능을 통해 이온 빔을 집중적으로 정확하게 정렬하고 스캔하여 임플란테이션의 정확도를 높입니다. 이 기능은 복잡한 전자 부품 (electronic component) 제조에서 높은 수준의 정밀도를 달성하는 데 필수적입니다. E11081190에는 사용자 제어 및 데이터 저장을위한 통합 컴퓨터 시스템도 있습니다. 임플랜터 매개변수 (예: 드웰 타임 (dwell time) 및 빔 피치 (beam pitch)) 를 임플랜터 위치에서 모니터링하고 조정할 수 있습니다. 또한 강력한 소프트웨어를 통해 사용자는 프로세스 레시피 보기, 분석, 수정, 응답 커브 관리, 치료, 신속한 빔 조정 등을 수행할 수 있습니다. 이를 통해 올바른 이온 복용량이 정확하게 전달됩니다. VARIAN E11081190은 나노초 (nanosecond) 규모의 결정에서 반복 가능하고, 정확하며, 신뢰할 수있는 결과를 제공할 수 있으며, 다운타임을 줄이고, 효과적이고, 매우 정확한 이식 프로세스를 가능하게 합니다. 또한 디바이스/구성요소에서 높은 수준의 품질과 무결성 (Integrity) 을 유지하여 최종 제품의 성능과 기능을 보장합니다.