판매용 중고 VARIAN E11001040 #9211648

VARIAN E11001040은 최첨단 이온 임플란터 및 모니터로, 반도체 웨이퍼 처리를 위한 탁월한, 고정밀 이온 빔 기술입니다. 업계에서 가장 발전된 임플랜터 중 하나이며, 탁월한 정확성과 신뢰성을 자랑합니다. 고성능 작업을 지원하기 위해 이 장치에는 여러 가지 최첨단 구성 요소가 포함되어 있습니다. 고 에너지 빔 라인은 원하는 이온을 이식하기 위해 최적의 빔 에너지 전달을 보장합니다. 전동 스텝 스캔 시스템 (Motorized Step Scan System) 은 최적화 된 트랜스 셉트의 정확한 반복 가능한 스캔을 가능하게하여 균일 한 임플란트를 보장합니다. 또한, 이식 된 빔은 디플렉터 및 슬릿의 사용을 통해 전달 될 수있다. 이 장치는 반도체 재료의 얕은 접합 (shallow junction) 과 같은 광역 및 지역 임플란트에 적합합니다. 또한, 이 장치에는 용량 전달을 최적화하는 컴퓨터 제어 프로세서가 있습니다. 컨트롤러 (Controller) 는 프로세스 주기 동안 용량 (dose) 을 제어할 수 있는 여러 조정 가능한 매개변수를 제공합니다. 또한 wafer-by-wafer 방식으로 프로세스 결과를 평가하는 데 사용할 수 있습니다. 또한 운영자는 빔 전류 (beam current), 에너지 (energy) 및 스캔 속도 (scan speed) 와 같은 매개변수를 실시간으로 조정할 수 있습니다. 이를 통해 프로세스를 신속하게 최적화하고 생산량을 향상시킬 수 있습니다. 모니터링을 위해, E11001040은 시장에서 가장 진보된 종단점 탐지 시스템 중 하나를 포함합니다. 이 시스템은 사이클에 걸쳐 정확한 임플란트를 보장하기 위해 정확하고 안정적인 종점 탐지를 제공합니다. 또한이 장치에는 질량 분광법, 적외선 및 가시 광선 분광법, 빔 팬 분석과 같은 여러 챔버 진단이 포함됩니다. 이러한 진단 프로그램을 사용하면 임플란트 프로세스를 정확하게 모니터링할 수 있으며, 필요할 경우 즉시 피드백을 보내 수정 조치 (corrective action) 를 수행할 수 있습니다. 이 모든 기능이 결합되어 탁월한 품질의 임플란트 (임플란트) 와 최소한의 폐기물 및 최대한의 효율성을 보장합니다. 고급 컴퓨터 제어 (advanced computer control) 와 진단 (diagnostics) 을 통해 임플란트 프로세스를 정확하게 제어할 수 있으므로 결함이 없는 균일 한 제품이 생성됩니다. 또한 고품질 구성 요소와 신뢰할 수 있는 설계를 통해 장기적이고, 문제 없는 성능, 시간 및 비용을 장기적으로 절감할 수 있습니다.