판매용 중고 VARIAN E11000090 #9110167

VARIAN E11000090 (VARIAN E11000090) 은 고성능 이온 임플랜터이며, 고급 반도체 제조 공정에 적합한 정확하고 강력한 이온 도핑을 제공합니다. 단일 엔드 전용 임플랜터 및 모니터로, 다양한 이온과 함께 작동합니다. 이 제품은 고효율과 속도를 제공하도록 설계되었으며, 최대 60kW의 출력 전력을 제공합니다. E11000090에는 소스 위치를 최적화하기 위해 노즐 센터 포인트를 자동으로 조정하는 리퀴드 소스 헬프 라인 (Liquid Source Helplines) 과 진공에 재료를 직접 주입 할 수있는 진공 전송 라인 (Vacuum Transfer Line) 과 같은 고급 기능이 장착되어 있습니다. 또한 백사이드 임플란트 (backside implant) 기능을 통해 사용자는 선택적으로 다른 도핑 에이전트를 기판의 다른 영역에 임플란트 할 수 있습니다. VARIAN E11000090에는 이온 옵티컬 모니터 (Backside Ion Optical Monitor) 도 함께 제공되어 임플란트 진행에 대한 현장 모니터링을 제공합니다. E11000090은 최대 10nm 해상도의 최대 10 ^ 15/cm2 용량의 이온을 제공할 수 있으며, 빔 치수를 극도로 세밀하게 제어하기 위해 외부 빔 스캐닝 시스템을 갖추고 있습니다. 임플란트 용량 및 위치를 정확하게 제어하기 위해 강력한 빔 안정화 (beam stabilization) 기능을 제공합니다. 이플란터의 빔 현재 모니터 (Beam Current Monitor) 기능은 도핑 프로세스 중에 있을 수 있는 크기의 입자를 감지하고 식별할 수도 있습니다. 강력한 이온 이식 이식 기능 외에도, VARIAN E11000090 은 임플란트 프로세스를 분석 및 모니터링하는 다양한 툴을 제공합니다. 자동 정렬 시스템 (Automated Alignment System) 은 자동으로 노즐 및 기판의 위치를 조정하여 임플란트 프로파일의 정밀도를 최적화합니다. 또한 기판에 흡수 된 임플란트 이온의 양을 측정하고 기록하는 이온 플럭스 미터 (Ion Flux Meter) 가 특징입니다. 모니터의 멀티 채널 이온 플럭스 검출기 (Multi-Channel Ion Flux Detector) 는 다양한 각도에서 여러 채널의 이온 플럭스를 감지하여 사용자가 도핑 프로세스의 최대 균일성과 정확성을 보장하도록 도와줍니다. E11000090 이온 임플랜터 및 모니터는 고품질 결과를 제공하기 위한 강력하고 안정적인 도구입니다. 도핑 (doping) 프로세스의 정확성과 정확성을 보장하는 툴을 제공하여 사용자는 탁월한 성능을 얻을 수 있습니다.