판매용 중고 VARIAN E11000022 #9274294

VARIAN E11000022 이온 임플란터 & 모니터는 반도체 칩 제조 공정에 사용되는 첨단 정밀 장치입니다. 이 기술은 칩 생산에 사용되는 에너지 입자의 제어, 측정, 분석을 용이하게하도록 설계되었습니다. E11000022 는 이온 임플란터입니다. 즉, 이온을 제조 공정을 위해 반도체 웨이퍼에 이온을 이식하는 데 사용됩니다. 이 장치 는 원하는 "이온 '종 과 여러" 에너지' 를 가진 "이온 '의 광선 을 발하며, 이 광선 을 사용 하여" 이온' 을 반도체 "웨이퍼 '에 이식 한다. 질량 필터가 내장되어 있어 질량 (mass) 을 기준으로 이온 (ion) 을 정확하게 선택할 수 있습니다. 디바이스의 두 번째 부분은 implanter 와 함께 사용되는 monitoring system 입니다. 이를 통해 이식 프로세스를 완벽하게 제어 할 수 있습니다. 여기에는 임플란터의 각 모서리에 배치되고 2 개의 축 스캐닝 및 2 개의 축 플럭스 제어 (flux control) 를 사용하는 4 개의 트랩 세트가 포함됩니다. 모니터링 시스템 (monitoring system) 은 사용자에게 다양한 데이터를 제공하고 그에 따라 조건을 조정할 수 있습니다. 또한 VARIAN E11000022 (VARIAN E11000022) 에는 다양한 데이터를 보고 프로세스 진행률을 실시간으로 모니터링할 수 있는 애니메이션 디스플레이 모니터가 함께 제공됩니다. 디스플레이는 이식되는 입자 유형 (예: 이식되는 입자 유형 및 사용 중인 에너지 범위) 과 같은 동적 정보를 표시합니다. 또한 사용자는 전원 및 매개변수를 최대 정확도로 조정할 수 있습니다. 마지막으로, E11000022에는 이온 빔을위한 고전압 전원 공급 장치가 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 전체 프로세스에 전원이 공급됩니다. 전압은 1 V 단위로 정확하게 조절 가능하며, 임플랜트에 필요한 범위와 정확도를 제공합니다. 요약하면, VARIAN E11000022는 반도체 칩 제조에 사용되는 고급 다용도 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장치에는 제조 공정에 사용되는 활력 입자를 정확하게 제어, 측정, 분석 할 수있는 여러 컴포넌트 (component) 가 있습니다. 이러한 구성 요소에는 이온 임플랜터 (ion implanter), 모니터링 시스템 (monitoring system), 애니메이션 디스플레이 모니터 (animation display monitor) 및 고전압 전원 공급 장치 (high voltage power supply) 가 포함되며, 모두 사용자에게 성공적인 이식 프로세스에 필요한 모든 도구를 제공합니다.