판매용 중고 VARIAN E1000 #9102189

VARIAN E1000은 전력 효율, 정밀 이온 임플란터 및 모니터로, 반도체 업계에서 하이엔드, 고수율 제조 지원을 제공합니다. 바리안 E-1000 (VARIAN E-1000) 은 이온 소스를 사용하여 깊이와 폭이 균일한 웨이퍼 (wafer) 에 빠르고 효율적으로 이온을 임플란트하여 원하는 성능 수준을 달성합니다. E 1000 은 특정 요구 사항에 따라 사용자 지정, 조정할 수 있도록 설계되었습니다. 빠른 가속기 시스템과 작은 로드 크기를 갖춘 E-1000은 최대 400keV 임플란테이션 에너지 (최대 20mA/cm2 용량 속도) 를 제공할 수 있습니다. 이를 통해 빠르고 정확한 이식, 효과적인 용량 모니터링 및 제어가 가능합니다. VARIAN E 1000의 고급 빔 광학 및 제어 시스템은 정밀하고 부드러운 임플란테이션을 제공하여 빔 균일성 (beam uniformity), 웨이퍼 방향 (wafer orientation) 및 심도 (depth of implantation) 와 같은 다양한 임플란트 매개변수를 면밀히 제어 할 수 있습니다. 또한, 고급 빔 매칭 회로 (advanced beam matching circuit) 는 뛰어난 빔 정렬을 제공하여 균일 한 임플란테이션을 보장하는 데 도움이됩니다. E1000에는 품질 관리 유지에 도움이 되는 다양한 모니터링 시스템이 장착되어 있습니다. 시각적 모니터 (Visual Monitor) 는 이식 과정을 관찰하는 데 사용되며, 이식 후 모니터링 시스템은 각 임플란트의 용량 관련 매개변수를 기록합니다. 또한, 오염 방지 챔버는 입자 오염을 최소화하는 데 도움이되며, 이는 제품 결함으로 이어질 수 있습니다. VARIAN E1000 (VARIAN E1000) 은 다양한 안전 (Safety) 기능을 갖추고 있으며, 다양한 조정 가능한 안전 설정과 알람으로, 안전하고 안정적인 방식으로 작동 할 수 있습니다. 따라서 작업 시 주의가 필요할 때 사용자가 '사고 (accident)' 나 '오류 (error)' 를 완전히 인식할 수 있습니다. 요약하면, VARIAN E-1000은 매우 효율적이고 신뢰할 수있는 이온 임플랜터 및 모니터로, 반도체 산업보다 뛰어난 제조 지원을 제공합니다. 하이엔드 기술과 안전 (Safety) 기능은 정확하고 정확한 임플란트를 보장하는 한편, 비용을 절감하고 우수한 수익률을 제공합니다.