판매용 중고 VARIAN E1000 #200760

VARIAN E1000은 반도체 산업에서 사용하도록 설계된 고정밀 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 빔 라인, 이온 소스, 빔 진단 계측기 및 고해상도 빔 스캐닝 장비를 하나의 컴팩트 머신 (compact machine) 에 결합하고 종단 간 프로세스 제어를 제공합니다. 임플란터 (implanter) 는 수직 장착 이온 소스를 사용하여 이온 빔을 생성하고, 가속화 된 이온은 인라인 빔 전송 시스템을 통해 대상 웨이퍼 (target wafer) 쪽으로 향합니다. 이온 성능은 현장 방출 이온 소스, RF 전원 공급 장치, 질량 분석, 고해상도 빔 스캔 및 고급 빔 모니터링 계측기 (advanced beam monitoration instrumentation) 를 사용하여 최적화됩니다. VARIAN E-1000에는 2 단계 임플란터와 0.5 ~ 50 keV의 고해상도 빔이 있습니다. 이 장치는 최대 200mA까지 높은 전류를 가진 다양한 종류의 이온 (ion) 을 이식 할 수 있으며, 고급 빔 진단 계측 및 빔 스티어링 기술을 갖추고 있습니다. 또한 현재 균일성 (unifority) 과 임플란트 각도 (implant angle) 및 용량 (dose) 에 대한 뛰어난 제어를 통해 높은 처리량으로 단일 웨이퍼 처리를 수행할 수 있도록 설계되었습니다. E 1000 은 평면 패널 디스플레이와 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 내장하여 시스템 구성의 모든 측면에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 고급 신호 처리 알고리즘 (예: 빔 스팟 크기 감지 및 현재 보상) 도 사용할 수 있으므로 정확하고 정확한 임플란트 성능을 보장합니다. E-1000 은 운영 중 추가적인 보호를 위해 안전 연동 도구, 빔 스톱 (beam stop) 및 과전류 보호 기능을 갖추고 있습니다. 바리안 E 1000 (VARIAN E 1000) 은 고급 빔 진단 계측, 사용자 친화적 인터페이스 및 안전 기능으로 인해 반도체 장치 처리에 이상적인 선택입니다. 이 기계의 고정밀 이온 임플란터 (high-precision ion implanter) 와 모니터 (monitor) 는 광범위한 이온 이식 응용 분야에 사용될 수 있으므로 다양한 반도체 제작 프로세스에 이상적인 솔루션입니다.