판매용 중고 VARIAN E1000 #181223

VARIAN E1000은 반도체 산업에서 일반적으로 사용되는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 바리안 E-1000 (VARIAN E-1000) 은 반도체 제조 공정의 엄격한 요구를 충족하도록 설계되었으며, 도펀트 이식 및 이온 빔 믹스 제어에서 매우 효율적입니다. E 1000 은 빔 소스 (beam source), 자기 (magnetic) 및 정전기 광학 (electrostatic optics) 및 빔 프로파일러 (beam profiler) 에 대한 최신 혁신을 사용하여 도펀트 임플란테이션 및 기타 작업에 대한 높은 정밀도와 정밀도를 제공합니다. E-1000은 유연 이온 빔 혼합을 위해 가변 이온 분수를 생성하는 독특한 빔 분산 시스템을 사용하여 프로세스 제어를 개선합니다. 또한 E1000의 대형 빔 챔버 (beam chamber) 는 빠른 스캐닝 및 높은 처리량뿐만 아니라 저렴한 유지 관리 기능을 제공합니다. VARIAN E 1000의 최적화 된 빔 대상 (beam-target) 작업 흐름을 통해 고품질 도핑 프로파일을 제공하고 수익률을 향상시킬 수 있습니다. 고급 빔 포지셔닝 모니터, 정교한 빔 (beam) 전류 모니터, 실시간 스캔 옵션 등을 통해 안정적이고 일관된 도펀트 프로파일을 구현할 수 있습니다. 또한, VARIAN E1000은 동시 이온 이식 및 횡단면을 위해 여러 개의 이식 챔버를 사용하며, 프로브 시간과 다운 시간을 최소화하여 프로세스를 최적화합니다. 이 장치는 특허를받은 독점 진공 스캔 기계 (Vacuum Scan Machine) 를 갖추고 있으며, 이는 압력 안정성을 높이고 빔 균일성과 성능을 극대화합니다. 또한 VARIAN E-1000은 디지털 스캔 도구 (Digital Scan Tool) 를 갖추고 있으며 빔 전류를 줄이고 조도 균일성을 향상시키는 고급 바이어싱 및 제어 기능을 제공합니다. 또한 E 1000 은 다양한 기능 외에도 포괄적인 시각화 자산 (Visualization Asset), 포괄적인 사용자 인터페이스 (User Interface), 포괄적인 데이터 분석 패키지 등 정교한 소프트웨어 제어 기능을 제공합니다. 이러한 소프트웨어 구성 요소는 사용자에게 이식 프로세스의 각 단계를 모니터링하는 데 필요한 프로세스 제어 (process control) 및 분석 (analysis) 기능을 제공합니다. 한마디로, E-1000은 반도체 제조 설비, 도펀트 임플란테이션 (dopant implantation) 에 대한 탁월한 정확성과 정확성, 탁월한 프로세스 제어, 생산성 최적화를 제공하는 다양한 고급 기능과 소프트웨어 기능을 자랑합니다.