판매용 중고 VARIAN Disk for 160XP #9412732

160XP용 VARIAN 디스크는 고성능 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 그것 은 "이온 '을 반도체" 웨이퍼' 와 같은 기판 에 정확 하고 정확 하게 이식 하도록 설계 되었다. 이 시스템은 빔 전류와 함께 이온 에너지 (ion energy), 이온 용량 (ion doses) 및 빔 프로파일 (beam profile) 을 정확하게 제어하고 측정하여 재료 처리를 최적화할 수 있습니다. 또한 160XP용 디스크 (Disk for 160XP) 에는 정교한 내부 제어 및 모니터링 소프트웨어가 장착되어 있어 프로세스 제어 및 분석을 정확하게 수행할 수 있습니다. 160XP 장치용 VARIAN 디스크는 두 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 디스크 및 160XP 이온 소스. 디스크는 진공 절연 비 자기 챔버 (vacuum-insulated, non-magnetic chamber) 로, 기계의 이온 빔 전달 및 모니터링 구성 요소를 수용합니다. 160XP 이온 소스는 전자 빔 제어 소스로, 에너지 제어가 정확한 고류 밀도로 이온을 이식하도록 특별히 설계되었습니다. 신뢰성이 높고 유지 보수 비용이 저렴합니다. 160XP용 디스크 (Disk for 160XP) 는 다양한 방법으로 이온 빔을 정밀 제어합니다. 그것 은 이온 이 이식 되는 "에너지 '와 그 도착 시간 을 조절 하고 조절 할 수 있다. 160XP의 VARIAN 디스크 (VARIAN Disk) 의 에너지 범위는 200keV에서 정점에 도달하여 다양한 웨이퍼 재료를 처리하는 데 이상적입니다. 또한 디스크 (Disk) 는 이온 빔을 정확하게 배치하고 스캔하여 웨이퍼에 원하는 임플란트 프로파일을 생성할 수 있습니다. 160XP의 이온 소스 (ion source) 는 다른 소스보다 더 높은 전류 밀도를 생성 할 수 있으므로 이식 범위가 더 빠릅니다. 이로 인해 기판을 심을 때 생산성이 향상됩니다. 이온 소스는 또한 배경 중성 입자를 최소화하고, 오염 속도를 줄이고, 이온의 더 깨끗한 증착을 가능하게하도록 설계된다. 160XP용 디스크 (Disk for 160XP) 는 강력한 이온 임플랜터 및 모니터 툴로, 이온 빔을 정확하고 정확하게 제어할 수 있도록 설계되었습니다. 정교한 내부 제어 및 모니터링 소프트웨어를 통해 정확한 프로세스 제어 및 분석을 수행할 수 있습니다. 160XP용 VARIAN 디스크 (VARIAN Disk for 160XP) 는 현재 밀도가 높은 다양한 웨이퍼 재료를 구현하는 데 이상적인 도구이므로 생산성이 향상됩니다.