판매용 중고 VARIAN CF5 #9210374

VARIAN CF5는 VARIAN 그룹의 일부인 VARIAN Semiconductor Equipment에서 구축 한 이온 임플랜터 및 모니터입니다. VARIAN CF-5는 다양한 도구와 기능을 제공하여 고급 이온 이식 처리를 지원합니다. CF 5는 이온 임플란테이션을위한 고 에너지, 고 빔 전류 및 고 정밀 전자 충격원을 특징으로합니다. 고성능 컨트롤러 (HPC), 강력한 에너지 중심 윈도우형 임플란트 (Implant) 운영 환경, 다양한 재료를 처리하도록 설계된 견고한 빔라인이 장착되어 있습니다. 또한 CF5 는 고급 프로세스 제어 (process control) 기능을 제공하여 다양한 임플란트 (implant) 요구 사항을 충족할 수 있습니다. CF-5는 60-150KV 임플란트 에너지 및 1-500uA 빔 전류 용량뿐만 아니라, 최적의 품질의 임플란트를 만드는 광범위한 소스 빔 튜닝 기능을 갖추고 있습니다. 또한 VARIAN CF 5는 0.001-1 mTorr 사이의 압력으로 매우 정확한 용량 제어 기능을 제공합니다. 정교한, 고정밀 압력대 용량 교정 시스템과 함께 VARIAN CF5는 매우 일관된 임플란트 배치를 생성 할 수 있습니다. 또한, VARIAN CF-5의 균일 성 모드는 균일 한 용량, 에너지, 빔 강도를 유지하면서 균일 한 용량 및 에너지 분배를 제공하도록 설계되었습니다. 이 모듈은 또한 엄격한 임플란테이션 제어를 위해 매우 정확한 위치 지정 및 정렬 매개변수를 달성 할 수 있습니다. CF 5의 고급 이온 모니터는 노즐 크기, 노즐과 샘플 사이의 거리, 주입 에너지 (injected energy) 와 같은 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고 최적의 결과를 지속적으로 조정하도록 설계되었습니다. 이 모니터에는 직관적인 GUI (그래픽 인터페이스), 포괄적인 시스템 로깅 기능, 추적 가능한 데이터 등이 포함되어 있어 가장 정확한 모니터링이 가능합니다. 요약하자면, CF5 는 고급, 고품질의 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터로, 정교한 고밀도 압력대 용량 교정과 결합된 매우 정밀한 용량 조절 기능뿐만 아니라, 이온 이식 프로세스에 대한 포괄적인 옵션을 제공합니다. 또한 CF-5 는 실시간 프로세스 모니터링을 위한 고급 이온 (ion) 모니터와 추적 가능한 데이터 시스템 (Tracable Data System) 을 통해 가장 정확한 결과를 얻을 수 있습니다.