판매용 중고 VARIAN CF 3000 #9242115

VARIAN CF 3000 Ion Implanter & Monitor는 VARIAN, Inc.에서 개발 한 혁신적인 이온 이온 이식 이식 및 모니터링 시스템입니다. 세계 최고의 이온 임플란터 (ion implanter) 로, 컴팩트한 디자인에서 최대의 유연성, 안정성, 성능을 제공할 수 있습니다. 멀티 소스 멀티 타겟 디바이스 (Multi-Source, Multi-Target Device) 는 쉽고 빠르게 조절할 수 있는, 경제적으로 설계되었습니다. 이 장치에는 특수 이온 이식 매개변수를 독립적으로 제어하기 위한 고유한 이온 (ion) 소스가 장착되어 있습니다. 이 소스의 빔 전류 범위는 1 ~ 10mA이고 빔 에너지 범위는 0 ~ 7,000 eV이며, 각 이식 공정을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 빔 전류 밀도는 최대 600A/cm ² 까지 가능하며, 광범위한 이식 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이 소스는 중요한 매개변수가 있는 응용 프로그램 중 정밀도를 높일 수 있도록 더 짧은 유지 시간 (dwell time) 에 더 높은 현재 이식 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. VARIAN CF3000 (VARIAN CF3000) 은 이식 프로세스가 발전함에 따라 기판 매개변수를 빠르고 정확하게 측정할 수있는 현대적인 모니터 설계를 제공합니다. 모니터는 임플란트 깊이, 기판 온도, 이온 빔 전류 및 에너지, 기판 크기 등과 같은 매개변수를 측정 할 수 있습니다. 모니터에는 작은 설치 공간과 확장 된 깊이 범위 (extended depth range) 가 있어 작은 진공 실 (vacuum chamber) 안에 들어가 실험실의 귀중한 공간을 절약할 수 있습니다. 이 시스템에는 수평 (horizontal), 수직 (vertical), 회전 (rotational), 기울기 (tilt) 동작 등 6축으로 와퍼를 매우 매끄럽게 움직이도록 설계된 활성 플랫폼이 장착되어 있습니다. 사용자 친화적이고 직관적인 소프트웨어 인터페이스 (Software Interface) 를 통해 Wafer 기판을 쉽게 조작할 수 있습니다. 또한 고정밀도 온도 조절과 능동형 냉각 시스템 (cooling system) 을 통해 일관되고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 CF-3000 은 전원 공급 장치가 내장된 컴팩트한 설계를 통해 소중한 실습 공간을 절약하고 운영 비용을 절감할 수 있습니다 (영문). 이 장치는 수년간 안정적으로 사용할 수 있는 유지 보수 (maintenance-free) 방식이며, 수명 주기가 확장되어 정확성과 장기적인 생산성을 보장합니다. CF3000 은 반도체 제조, 연구 개발 (Research and Development) 분야와 같이 이식 매개변수를 정확하게 제어해야 하는 랩 환경에 적합합니다. 이것은 최대 정밀도와 제어를 갖춘 비용 효율적이고 다양한 임플랜터 (implanter) 를 찾는 사람들에게 이상적인 장치입니다.