판매용 중고 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293651987
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ID: 293651987
웨이퍼 크기: 8"-12"
빈티지: 2005
Ion implanter, 8"-12"
Process chamber
Pumps not included
Source head: Advance 54mm
ESC (Platen): COMP II
Roplat tilter assembly
UES2 Process endstation
Load locks:
Dual, 25 Wafer capacity
Polished integrated loadlock
Self aligning atmospheric door
4-Wafer walk out sensors in pass through cassette
Through-beam wafer mapping sensor
BROOKS DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement
ESC Controller:
P/N: E19283790
MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3
Drive mechanism:
E11320430 Orientor assembly
VAC-407 IN VAC Arms
Foups/Load ports: 4-FOUP Complies
Module:
Gas module 1: Argon
Gas module 2: BF3
Gas module 3: AsH3
Gas module 4: PH3
Power supply: 3 Phase, 208 VAC
2005 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HC는 고전류 이온 임플란터 및 모니터로, 탁월한 프로세스 제어 및 신뢰성을 통해 높은 생산성을 제공하도록 개발되었습니다. 이 제품은 다양한 기술을 결합하여 고전압 전원 공급 장치, 고전류 빔 (High-Current Beam) 주입 장비, 고급 모니터링 및 제어 시스템 등 뛰어난 성능을 제공합니다. 고전류 전원 공급 장치는 직경이 최대 200mm 인 얇고 두꺼운 기판에 대해 최대 3 ° A ~ 45 keV의 대형 동적 범위를 제공합니다. 사출 단위 설계는 정확한 입자 선속 및 전류 전달을 보장하며, 일관되고 반복 가능한 임플란트를 촉진합니다. 또한 에너지, 전류, 빔 이동, 스캔 속도 등 모든 중요한 매개변수에 대한 디지털 폐쇄 루프 (closed-loop) 제어를 제공합니다. 고급 모니터링 및 제어기 (Advanced Monitoring and Control Machine) 는 샘플 품질을 극대화하고 수동 개입을 최소화하도록 설계되었습니다. 프로세스 모니터링을위한 여러 센서, 임플란트 컨트롤러를 인터페이스 할 수있는 프로그래밍 가능한 로직 컨트롤러, 사용자 정의 매개변수를위한 대화식 제어 인터페이스 (interactive control interface) 가 특징입니다. 또한, 이 툴을 구현하면 매우 정확한 임플랜테이션 시간 (implantation time) 과 향상된 전체 프로세스 제어가 가능합니다. AMAT VIISta HC Ion Implanter and Monitor는 균일성, 처리량 및 용량에 대한 가장 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 제품은 처리량을 높이고, 생산 수준을 향상시키며, 가장 엄격한 사양을 충족하도록 설계되었습니다. 또한, 다양한 운영 요구 사항에 맞게 손쉽게 유지 관리 및 프로세스 최적화를 수행할 수 있도록 설계되었습니다. 또한 디지털 신호 처리 (digital signal processing) 및 데이터 디스플레이 (data display) 를 제공하여 최적의 임플란트 결과를 위한 정확한 분석을 보장합니다.
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