판매용 중고 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #293750288
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
ID: 293750288
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
Ion implanter, 8"
Laser wafer mapping
EATON 9PX 3000 UPS
AFFINITY RAA-012K-CE55CBC Chiller
Chamber material: Aluminum
SMIF interface: VARIAN interface for ASYST SMIFS
Gas box configuration:
Gas Box: 5 Sticks, HP and SDS2 in use
N2 MFC Size: 1 SLM
Power supply: 208 V, 3 Phase, 50/60 Hz
2000 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80은 반도체 재료로의 이온 도입 및 제거를 정확하게 제어하도록 설계된 이온 임플란터 및 모니터입니다. 이 고급 장비 (Advanced Equipment) 는 신뢰할 수 있고 정확도가 높은 도구를 제공하여 다양한 소재에서 고성능 반도체 (HPD) 장치를 만들 수 있습니다. AMAT VIISta 80 이온 임플란터 및 모니터에는 빠르고 안전한 작동이 가능한 내장 연동 시스템이 내장된 견고한 디자인이 있습니다. 이 장치는 또한 독점 전자 빔 창 (Electron Beam Window) 옵션을 통해 사용자가 응용 프로그램에 대한 최적의 임플란트 깊이를 빠르게 달성 할 수 있습니다. VARIAN VIISta 80은 수많은 고급 기능을 사용하여 이온을 이식 할 때 최대 정확도와 정밀도를 보장합니다. 이온 임플란트 속도 (ion implant rate), 이온 빔 정렬 (ion beam alignment) 및 프로세스 매개변수의 적응적 조정이 가능한 정교한 알고리즘으로 설계되었습니다. 또한, 정확성과 정밀도를 위해 지속적으로 모니터링되는 고급 웨이퍼 정렬 장치 (Advanced Wafer Alignment Unit) 를 자랑합니다. VIISta 80은 모니터링 목적으로 실시간 광학 빔 프로파일링 (Optical Beam Profiling) 을 사용하며, 이는 사용자가 재료의 이온 농도 수준에 대해 가장 정확한 판독 값을 제공합니다. 이 강력한 머신에는 고급 빔 뷰어 (enhanced beam viewer) 가 포함되어 있어 재료의 이온 농도를 보다 정확하게 분석 할 수 있습니다. 응용 재료 VIISta 80에는 위험한 수준의 방사선 및 전기 충격 (electrical shock) 에 대한 노출을 최소화하기 위해 다양한 보호 및 안전 측정이 장착되어 있습니다. 이 외에도, 이 장치는 업계 표준 안전 표준을 완벽하게 준수하도록 설계되었습니다. 전반적으로 VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80은 반도체 재료에서 이온을 주입 또는 제거 할 때 사용자에게 최적의 성능 및 안정성을 제공하도록 설계된 고급 이온 임플란터 및 모니터입니다. 이 강력한 도구는 다양한 정밀 제어 기능, 보호 안전 측정 (Protection Safety Measures), 빔 모니터 (Beam Monitor) 를 제공하여 최고 수준의 결과와 안전한 작업 환경을 보장합니다.
아직 리뷰가 없습니다