판매용 중고 VARIAN AAS 30 #293672532

VARIAN AAS 30은 특수 이온 이식 공정에 사용되는 이온 임플란터 및 모니터입니다. 이 제품은 제약, 의료, 항공 우주/방위 (Aerospace/Defense) 와 같은 어려운 반도체 기술로 작동하도록 설계된 고정밀도, 신뢰할 수 있는 도구입니다. 최대 800mA (최대 800mA) 의 높은 이온 (ion) 전류 범위와 최대 45도 (implanting angle) 의 다양한 이식 각도를 갖춘 정밀한 빔 제어를 포함한 뛰어난 성능 기능을 제공합니다. 이를 통해 모든 과정에서 최적의 이온 재료 깊이 및 분포가 달성됩니다. AAS 30은 가변 자기장 기술 (VMF) 을 사용하여 고급 이온 이식 기능을 제공합니다. 최대 30 인치 거리, 큰 빔 정의 조리개 크기, 미세하게 조절 가능한 빔 발산 (beam divergence) 의 소스를 특징으로합니다. 회전 스윕 제어는 또한 빔 드리프트 교정을 빠르게 할 수 있습니다. 또한, 기계는 동적 빔 방출 제어를 위해 고속 반응 열전 코일 (fast-response thermoelectric coil) 을 장착하여 이식 과정에서 안정적인 빔 특성을 보장합니다. VARIAN AAS 30은 또한 철저한 프로세스 제어를 위한 탁월한 종단점 모니터링 기능을 제공합니다. 예 를 들어, "에너지 '통합" 모니터' 는 저전압 으로 착상 을 할 때 에도, 약실 내부 의 전자 전류 를 계속 판독 한다. 또한, 온도 조절 열 센서는 개선 된 열 환경에 대한 챔버 온도의 정확한 측정을 제공합니다. 또한 이온 빔 모니터 (ion beam monitor) 는 빔 전류가 안전한 임플란트 실행을 위해 지정된 한계 내에 유지되도록 합니다. 이 시스템은 또한 소스를 편리하게 작업할 수 있도록 사용자 친화적 인 소프트웨어 패키지를 제공합니다. GUI (Graphical User Interface) 는 명확한 프롬프트와 다양한 컨트롤을 제공하여 임플랜터를 쉽게 작동 및 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 이 패키지는 가상 환경에서 운영 (production) 을 수행할 수 있는 강력한 시뮬레이션 프로그램을 제공합니다. 요약하자면, AAS 30은 고급 어플리케이션에 대한 고급, 안정성, 고정밀 이온 임플랜터이며 모니터입니다. 임플란테이션 (Implantation) 프로젝트를 위한 안정적이고 정확한 제어 시스템을 찾는 사람들에게 탁월한 선택입니다.