판매용 중고 VARIAN 400-10 #9105618

VARIAN 400-10은 반도체 제조에 사용되는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 붕소, 인, 비소와 같은 원자 규모 입자를 반도체 재료의 표면과 층에 도입하는 데 사용됩니다. 이 기법을 이온 이식 (ion implantation) 이라고하며 트랜지스터, 다이오드 및 기타 반도체 장치를 만드는 데 사용됩니다. 400-10의 기본 구성 요소에는 이온 소스 챔버, 이온 빔 생성기, 3 차원 스캔 장치 및 Faraday 컵이 포함됩니다. 이온 소스 챔버 (ion source chamber) 는 이온 (ion) 의 에너지를 설정하고 이온 (ion) 을 이식 할 대상 물질을 수용한다. "이온 빔 '발전기 는" 이온' 을 가속 시켜 표적 인 물질 에 이식 할 수 있게 한다. 3 차원 스캔 장치는 원하는 영역의 짝수 범위를 보장하기 위해 사용됩니다. 패러데이 컵 (Faraday cup) 은 이온 빔을 통과하는 전류의 양을 감지하며 이식 된 이온의 용량을 측정하는 데 사용됩니다. VARIAN 400-10은 이식 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이식 된 "이온 '의" 에너지' 와 용량 은 표적 인 물질 의 특성 과 일치 하도록 조정 될 수 있다. 3 차원 주사 장치 (scanning device) 는 원하는 영역의 정확한 범위를 가능하게하여 이식 된 이온의 고른 깊이를 보장합니다. 또한, 시스템 작동을 모니터링하여 잠재적 오류 또는 오작동을 감지할 수 있습니다. 400-10에는 안전 및 신뢰성 향상을 위해 여러 기능이 포함되어 있습니다. 이온 빔 (ion beam) 은 환경에 노출되지 않도록 진공 챔버에 둘러싸여 있습니다. 또한, 기계는 고급 경보 시스템 (Advanced Alarm System) 을 갖추고 있으며, 이 시스템은 운영자에게 잠재적인 위험을 경고하도록 설계되었습니다. 전반적으로, VARIAN 400-10은 신뢰할 수 있고 고급 임플란터이며, 다양한 반도체 응용을위한 표적에 원자 입자를 정확하게 도입 할 수 있습니다. 이식 과정 (Implantation Process) 과 안전 (Safety) 기능에 대한 정확한 제어는 업계 전문가에게 이상적인 선택입니다.