판매용 중고 VARIAN 350D #9229054

VARIAN 350D (VARIAN 350D) 는 매우 정확하고 정확한 대용량 반도체 웨이퍼 이식 및 모니터링을 위해 설계된, 신뢰할 수 있는 고성능 이온 임플랜터이며 모니터입니다. 인상적인 균일 한 반점 분포와 뛰어난 정밀도를 자랑하는 VARIAN 350 D (VARIAN 350 D) 는 집적 회로 제작, 박막 증착, 메모리 장치 제작, 도핑 어플리케이션 등 다양한 어플리케이션에 적합한 고급 임플란테이션 시스템입니다. 350D는 정확하고 정확한 임플란테이션을 위해 고속 전자 총, 2 개의 질량 분석기 및 디지털 신호 처리를 특징으로합니다. 전자 총은 빔 전류가 최대 15mA 인 최대 10 keV 전자를 생성 할 수 있으며, 질량 분석기는 질량 전하비를 기준으로 이온을 정확하게 분리 할 수 있습니다. 디지털 신호 처리 (digital signal processing) 알고리즘은 빔 매개변수의 실시간 분석 및 최적화에 사용되므로 효율성과 정밀도를 반영합니다. 350 D에는 하드웨어 및 소프트웨어 어레이 (array of hardware and software) 기능이 장착되어 있어 이온 이식 프로세스를 효과적이고 효율적으로 구현할 수 있습니다. 여기에는 빔 노출 시간을 제어하는 빔 셔터 (beam shutter), 임플란테이션 시간을 정확하게 프로그래밍하기위한 밀리초 지연 생성기 (millissecond delay generator) 및 다양한 매개변수를 쉽게 모니터링 및 조정하는 온 스크린 그래픽 인터페이스 (on-screen graphical interface) 가 포함됩니다. 또한, VARIAN 350D에는 안전용 잠금 도어 (lockable door for safety) 및 과도한 전류 손상을 방지하기위한 고급 전류 제한선 (advanced current limiter) 을 포함하여 광범위한 안전 및 보안 기능이 제공됩니다. 바리안 350 D (VARIAN 350 D) 는 또한 인상적인 에너지 옵션을 특징으로하며, 최대 8 MeV까지 선택 가능한 에너지를 선택하여 광범위한 도펀트를 이식 할 수 있습니다. 전체적으로, 350D는 뛰어난 성능과 안정적인 임플란테이션 및 모니터링 솔루션을 제공하여 일관되게 정확하고 정확한 결과를 보장합니다. 반도체 업계의 다양한 이온 이식 (ion implantation) 프로세스에 적합한 선택이다.