판매용 중고 VARIAN 350D #293765991

VARIAN 350D는 반도체 프로세스에 사용되는 최첨단 이온 임플란터 및 모니터 장비입니다. 이 다용도 장치는 도핑 (doping), 어닐링 (annealing), 이온 밀링 (ion milling) 과 같은 다양한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 시스템은 장치를 제어하는 임플랜터 (implanter), 모니터 (monitor) 및 여러 컴퓨터 시스템으로 구성됩니다. "임플란터 '는" 에너지' 와 자기장 을 사용 하여 표적 "웨이퍼 '에" 이온' 을 가속 시키며, 거기 에서 다른 화학적 및 전기적 특성 을 달성 하기 위하여 표면 에 이식 된다. 모니터는 이온 전류 (ion current) 를 측정하고 허용 한도 내에 있는지 확인하는 데 사용됩니다. VARIAN 350 D는 단일 엔드 가속기 디자인을 기반으로하며 특허를받은 선형 등급 렌즈 머신 인 ACO (Aluminum-Ceramic Optic) Lens) 를 특징으로하며, 신뢰할 수 있고 반복 가능한 임플랜팅을위한 고품질 빔 스팟을 제공합니다. ACO 렌즈 (ACO lens) 는 웨퍼 (wafer) 의 특정 깊이에서 균일 한 임플란트 밀도를 보장하기 위해 조정 가능한 초점이 있습니다. 또한 통합 (Computerized) 제어 에셋과 사용자 인터페이스 (User Interface) 를 사용하여 임플랜팅 프로세스를 모니터링하고 수정할 수 있습니다. 350D는 정확하고 신뢰할 수있는 임플랜터 및 모니터 모델로, 대용량 생산 반도체 제조를 위해 고정밀도 및 제어된 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 가장 높은 수준의 프로세스 유연성을 위해 설계되었으며, 다양한 빔 스팟 크기, 전류, 용량, 에너지 수준 및 다양한 빔 유형 (예: 싱글 빔, 듀오 빔, 멀티 빔, 복합 빔) 을 제공합니다. 이 장치는 또한 독특한 SIMPLE 프로그래밍 언어 (SIMPLE programming language) 와 데이터 획득 장비 (data acquisition equipment) 를 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 다양한 프로세스 매개변수를 저장하고 리콜 할 수 있습니다. 이 시스템에는 제한 확인 (Limit Check) 및 경고 (Warning) 시스템도 장착되어 있으며, 이 시스템은 모든 이식 매개변수가 안전한 한계 내에 있는지, 공차 외 (Out-of-tolerance) 조건이 빠르게 식별되고 수정되도록 도와줍니다. 결론적으로, 350 D는 안정적이고 효율적인 이온 임플란터 및 모니터 장치입니다. 다른 도펀트와 이온을 웨이퍼에 정확하게 이식할 수 있으며, 모든 이식 프로세스가 정확하고 반복 가능하도록 돕는 다양한 기능 및 도구 (예: 프로그래밍 가능한 제한 체크, SIMPLE 데이터 획득) 가 있습니다. 이 장치는 대용량 생산 응용프로그램에 적합하며, 반도체 제조업체에 귀중한 자산이어야 합니다 (영문).