판매용 중고 VARIAN 350D #293641019

ID: 293641019
웨이퍼 크기: 5"
Ion implanter, 5".
VARIAN 350D는 VARIAN Semiconductor Equipment Associates에서 개발 및 생산 한 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 제품은 고급 반도체 소자 제작 공정을 위해 이온을 웨이퍼 (wafer) 에 이식하는 데 이상적인 고성능 장비입니다. VARIAN 350 D에는 안정적이고 정밀한 이온 배치를위한 멀티 빔 인젝터 (multi-beam injector) 및 이온 임플란트 공정을 쉽게 최적화하는 이온 빔 스티어링 시스템 (ion beam steering system) 과 같은 고급 기능이 있습니다. 또한 동시 모니터 장치 (simultaneous monitor unit) 를 포함하여 이온 빔 모니터링 (ion beam monitoration) 및 이식 프로세스를 제어 및 용이하게하는 고급 소프트웨어가 포함됩니다. 350D (350D) 에서 제공하는 매우 정밀하고 반복 가능한 기능으로, 장치 제작을 위한 완벽한 선택이 가능합니다. 제어 및 반복성으로 동시에 최대 5 개의 빔을 웨이퍼에 이식 할 수 있습니다. 또한, 시스템을 다른 시스템과 통합하여 완벽한 wafer device fabrication 솔루션을 제공할 수도 있습니다. 350 D (350 D) 의 견고한 설계로 긴 서비스 수명 (Service Life) 이 가능해졌으며, 테스트 및 측정 프로세스는 작업 중 모든 유형의 문제를 식별하도록 설계되었습니다. 이 도구에는 이식 공정에서 방출되는 방사선 (radiation) 으로부터 사용자를 보호하기 위해 유전장벽 (dielectric barrier) 과 같은 다양한 안전 옵션이 있습니다. 또한 VARIAN 350D (VARIAN 350D) 에는 다양한 설정과 컨트롤이 포함되어 있어 사용자가 해당 응용 프로그램에 맞게 이식 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. 여기에는 빔 크기, 현재 설정, 초점 크기 설정, 가속 설정 등이 포함됩니다. 에셋은 또한 전력 안정화 모델 (Power Stabilizing Model) 을 특징으로하며, 구현 과정에서 이온 빔의 모든 유형의 결함 또는 변동이 제거됩니다. 결국, VARIAN 350 D는 고성능 이온 임플랜터 및 모니터 장비로, 웨이퍼 장치 제작을 위해 수많은 고급 기능을 제공합니다. 고급 기능은 정확하고 반복 가능한 이온 임플란테이션 (ion implantation) 및 정확한 빔 모니터링 (beam monitoration) 을 제공하는 반면, 사용자 친화적 운영, 안전 보호 및 다양한 사용자 정의 옵션을 통해 모든 유형의 어플리케이션에 이상적인 시스템으로 사용할 수 있습니다.
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