판매용 중고 VARIAN 345 #9064802

VARIAN 345는 현대 반도체, 의료 및 산업용 이온 이온 이식 응용 프로그램의 가장 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 tandem 전기 구동 이온 임플란터 및 모니터입니다. 가장 발전된 기술을 사용하여 구축 된 345는 최대 35mA의 빔 전류, 최대 400keV의 빔 에너지, 매우 정확하고 정확한 원자 별 변조 및 제어를 위해 최소 0.2 발의 빔 드웰 시간을 제공합니다. 이 기계는 고급 소스 중화 (neutralization) 장비로 제작되어 빔 균일성을 극대화하고 보다 정확한 이온 빔 (ion beam) 을 생성하며, 소스를 스퍼터 손상 가능성으로부터 보호합니다. 이 시스템은 우수한 소스 수명을 제공하며, 높은 수준의 이온 임플란팅 (implanting) 정확도를 보장합니다. 또한, 이 장치는 추가 후면 중화 (backside neutralization) 가 필요하지 않으므로 소스를 통해 빔 전류를 직접 제어할 수 있으며, 후면 중화 (backside neutrization) 에 필요한 조정을 제거하여 정밀도를 향상시킵니다. 이 기계는 또한 고급 빔 스캐닝 머신 (advanced beam scanning machine) 을 갖추고 있으며, 웨이퍼 (wafer) 또는 샘플 (sample) 의 양쪽을 스캔하여 이온 빔의 정확한 위치와 캡처를 보장합니다. 스캐닝 도구 (scanning tool) 는 또한 매우 정확한 빔 스팟 (beam spot) 주위를 제공하며, 다양한 제어 옵션을 제공하여 사용자가 빔 모양과 빔 크기를 빠르게 조정하여 이온 이식 프로세스를 더욱 사용자 정의할 수 있습니다. VARIAN 345에는 고급 이온 빔 모니터 (ion beam monitor) 가 제공되며, 이온 용량, 에너지 및 위치 수준을 임플란테이션 프로세스 전반에 걸쳐 감지하고 모니터링 할 수 있습니다. 모니터는 붕소, 비소, 안티몬, 인, 아연과 같은 다양한 유형의 도펀트를 감지하고 정확한 임플란테이션 제어를 위해 정확한 용량 수준을보고할 수 있습니다. 마지막으로, 345는 또한 디지털 모니터링 및 제어 자산을 제공하여 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 를 사용하여 임플랜테이션 매개변수를 보고, 분석하고, 구성할 수 있습니다. 이 모델은 또한 간편한 문제 해결을 위해 내장된 진단 기능을 제공하며, 향후 임플란테이션 프로세스 (implantation process) 동안 사용하기 위해 쉽게 저장된 설정을 리콜할 수 있습니다. VARIAN 345 (VARIAN 345) 는 현대의 이온 이온 이식 응용 프로그램의 정확한 요구 사항을 충족하도록 설계된 매우 다재다능하고 강력한 이온 임플란터 및 모니터입니다. 첨단 기술과 기능으로 구축된 345 는 현재 시판되고 있는 가장 안정적이고 정밀한 이온 이식 (ion implantation) 시스템 중 하나입니다.