판매용 중고 VARIAN 300XP #9390703

VARIAN 300XP는 반도체 업계에서 사용하도록 설계된 고성능 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장치 는 "이온 '을 빠른 속도 로 매우 다양 한 표적 에" 이온' 을 이식 할 수 있다. 바리안 300 XP (VARIAN 300 XP) 는 컴팩트하고 다용도 기계로, 독점 소스 구성 및 조작 소프트웨어의 도움을 받아 다양한 상세한 프로세스 애플리케이션을 제공할 수 있습니다. 이 장치는 3 자석 디자인과 6 축 동작 장비를 사용하여 정확하고 정확한 이온 임플란테이션을 제공합니다. 그것의 기술은 0.1 mm까지 가속 빔 너비를 제어 할 수 있으며, 0.03 mm의 작은 빔 스팟 크기를 허용합니다. 또한 빔 전류 범위는 0.01-50 µA입니다. 동적 범위가 오후 1-500m인 고감도 연속 빔 전류 모니터가 특징입니다. 이 장치는 다양한 온도 범위 (20 ~ 400 ° C) 의 광범위한 프로세스 범위 내에서 작동하도록 설계되었습니다. 300XP는 원하는 빔 에너지 (beam energy) 와 가속 (acceleration) 을 선택하고 빔 각도를 제어하는 데 사용할 수있는 2 모드 이온 소스를 특징으로합니다. 이온 소스는 산화 내성 모드 또는 최대 용해 모드에 대해 튜닝 될 수있다. 이 장치에는 자동 로드 시스템 (Automatic Loading System) 이 있는데, 이 시스템은 이식되는 기판의 특성을 정확하게 감지하고 작동 및 빔 공준을 적절히 조정할 수 있습니다. 300 XP는 또한 다양한 용량과 에너지를 측정 할 수 있습니다. 이 장치에는 빔 너비 (beam width) 와 빔 전류 (beam current) 를 정확하게 제어 할 수있는 고급 제어 장치가 있습니다. 데이터 획득 기계는 업그레이드 된 펄스 소스 (pulsed source) 의 도움으로 용량과 에너지를 동시에 측정 할 수 있습니다. 공구 (Tool) 는 프로세스 수율 및 출력의 분석을 위해 다양한 실시간 그래프와 보고서를 생성할 수도 있습니다. 바리안 300XP (VARIAN 300XP) 는 효율적이고 신뢰할 수 있는 자산으로, 반도체 산업에 다양한 이식 솔루션을 제공할 수 있습니다. 효율적이고 정확한 설계로, 정확성과 정확성이 필요한 다양한 어플리케이션에 적합합니다. 다용도, 프로세스 범위, 유연성을 통해 반도체 업계의 모든 종류의 프로세스에 적합합니다.