판매용 중고 VARIAN 300XP #9302574

VARIAN 300XP는 반도체 제조에 사용되는 고정밀 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 반도체 증착, 이온 이식, 웨이퍼 클리닝 등 다양한 응용에 대해 정확하고 정확한 빔 제어를 제공합니다. VARIAN 300 XP는 고해상도 이온 임플란테이션을 달성하기 위해 안정적이고 정확한 빔 전류를 사용하는 직류 (DC) 소스입니다. 이를 통해 작은 이온을 크고 작은 물질 영역으로 낮은 배경 이식 (low-background implantation) 할 수 있습니다. 이 장비는 또한 높은 에너지 이온을 이식 할 수 있으며, 다른 임플랜터보다 우위를 제공합니다. 300XP는 또한 가변 에너지 이온 소스 (variable-energy ion source) 를 특징으로하며, 조절 가능한 에너지 설정을 통해 재료 층 임플란테이션에 필요한 정밀성과 반복성을 제공합니다. 300 XP는 아웃 가스, 증발, 스퍼터링 및 기판 에칭 응용 프로그램을 할 수 있습니다. 이 "시스템 '은 광범위 한 기판 형태 로 이식 될 수 있는 여러 가지 물질 과" 이온' 종 을 제공 한다. 이 장치는 온축 빔 스캐닝 위치 해상도 1.9 m (on-axis beam-scanned position resolution) 를 가지므로 작은 기능을 기판에 정확하게 배치 할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 데이터와 알고리즘을 저장하기위한 디지털 메모리 저장 (digital memory storage) 을 갖추고 있습니다. 이 메모리 저장 (memory storage) 을 사용하면 임플란테이션 프로세스에 사용되는 매개변수를 저장할 수 있습니다. 이 정보는 플랜트 성능을 최적화하고 응용 프로그램 내에서 반복 기능을 제공하는 데 사용될 수 있습니다. VARIAN 300XP에는 30 인치 모니터가 장착되어 있어 임플란테이션 프로세스를 정확하고 상세하게 분석할 수 있습니다. 이 모니터에는 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 가 포함되어 있어 Implantation 작업을 신속하게 찾고 모니터링할 수 있습니다. 또한 원격 모니터링/제어 (Remote Monitoring and Control) 기능을 통해 사용자는 원격 위치에서 매개변수를 조정하고 모니터링할 수 있는 기능, 임플란테이션의 이상을 경고할 수 있습니다 (영문). VARIAN 300 XP (VARIAN 300 XP) 는 신뢰성이 높고 다용도 임플랜터 및 모니터링 자산으로, 다양한 어플리케이션에 높은 정확성과 반복 성을 제공합니다. 반도체 제작에 사용되는 가장 인기 있고 성공적인 이식 시스템 중 하나입니다.