판매용 중고 VARIAN 120XP #9226120

VARIAN 120XP
ID: 9226120
웨이퍼 크기: 6"
High current ion implanters, 6"
바리안 120XP (VARIAN 120XP) 는 반도체 생산 환경에서 최고의 성능과 정확성을 위해 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장비는 VARIAN 110XP 이온 임플란터의 고급 버전입니다. 두 개의 개별 진동 빔 시스템을 통해 균일하고 일관된 이온 이식 (ion implantation) 을 제공 할 수 있습니다. VARIAN 120 XP는 3 개의 가속기, 스쿠핑 플랫폼, 2 개의 스캐닝 자석 및 통합 RF 바이어스 소스가있는 2 개의 MBL (Modular Beam Line) 을 갖춘 신뢰할 수 있고 비용 효율적인 시스템입니다. 이식 속도는 초당 1,000 볼트까지 가능하며, 이식 물을 반도체 웨이퍼에 수용하고 직경 200mm (기질) 까지 기질 할 수 있습니다. 120XP에는 직관적인 운영 메뉴 장치 (Operating Menu Unit) 가 있으며 내장형 마이크로프로세서 제어 (Microprocessor Control) 를 사용하여 임플란테이션과 모니터링 시스템을 정확하고 안정적으로 제어합니다. 이 기계에는 자동화된 빔 정렬 도구 (beam alignment tool) 와 경고 경보 및 인터 록 (interlock) 이 포함 된 기능적 안전 자산이 장착되어 있습니다. 120 XP의 빔 전류는 실시간으로 모니터링되어 에너지와 현재 균일성을 검증합니다. 이 모델은 또한 임플란테이션 제어의 안정성을 향상시키기 위해 필요한 외부 냉각 요구 사항, 가스 안정화 (stabilizing gase) 공급, 추가 지원 전자 제품 등을 제공합니다. 이 장비는 패라메트릭 스캔 (parametric scan) 및 최대 600 개의 동시 임플란트의 에너지 스캔 (energy scan) 에 대해 사용자에게 최대의 유연성을 제공하도록 설계되었습니다. 또한 고급 컴퓨터 인터페이스 (Advanced Computer Interface) 와 패라메트릭 스캔 데이터의 자동 분석 및 플로팅을위한 그래픽 기능도 갖추고 있습니다. 또한, VARIAN 120XP에는 임플란테이션 매개변수를 자동으로 조정하여 디가싱 (degassing) 이나 오염 물질 존재 (contaminant) 와 같은 환경 변화에 정확하게 대응할 수있는 내장 환경 센서가 내장되어 있습니다. 이렇게 하면 운영 라인의 사용자 시간과 노력이 절약됩니다. 무엇보다도, VARIAN 120 XP는 높은 품질의 생산 임플란트 (implant) 와 더 많은 생산 수율을 위해 설계된 신뢰할 수 있고 비용 효율적인 장치입니다. 종합적인 설계, 사용 편이성, 고급 모니터링 (Advanced Monitor) 기능으로, 현대의 모든 생산 시설에서 필수적인 요소가 될 수 있습니다.
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