판매용 중고 VARIAN 1000 #9404414

VARIAN 1000은 반도체 제조에 사용되는 이온 임플란터 및 모니터 유형입니다. 그것 은 "이온 '종 을" 실리콘 웨이퍼' 기판 의 표면 에 이식 시켜 원하는 전기 특성 을 만드는 데 사용 된다. 1000 은 방사선, DC 및 펄스 이온 임플란터이며, 큰 공정 챔버 및 다단 가속입니다. VARIAN 1000에 사용 된 이온 소스는 Frank-Bodesheim 유형이며, 최소 선폭이 1um 인 웨이퍼에 불순물을 도입 할 수 있습니다. 분만하는 동안 빔은 조종되고 모양입니다. 1000 은 동일한 웨이퍼 실행에서 정렬 된 스캐닝, 이온 변조, 에너지 변조 및 총 이온 전류를 모두 지원합니다. VARIAN 1000은 최대 300 ° C의 온도에서 높은 빔 전류, 높은 전하 대 질량 비율, 장기 작동을 제공하도록 설계되었습니다. 임플란터에는 극저온 냉각 장비 (cryogenic cooling equipment) 가 있어 소스 및 대상의 효율적인 작동이 가능합니다. 이것은 웨이퍼 재료를 열 손상으로부터 보호하는 데 도움이됩니다. 컴퓨터 제어 프로세스는 Windows 기반 인터페이스를 통해 모니터링되며, 사용자 친화적인 설치, 제어 및 데이터 수집 툴이 제공됩니다. 채택 된 이미지 분석 및 제어 시스템 (image analysis and control system) 은 프로세스 결과를 실시간으로 모니터링하며, 획득 한 이미지의 최대 해상도는 0.1 미크론에 이릅니다. 또한 1000에는 빔 전류, 위치 및 종횡비를 정확하게 측정하는 빔 디지털 모니터링 장치가 포함되어 있습니다. 이것은 이중 배출 모니터 머신 (double emittance monitor machine) 에 의해 수행되며, 모니터는 전체 빔 오버랩 지점과 최소 빔 강도 위치에 배치됩니다. 전반적으로 VARIAN 1000은 고급 이온 임플랜터 (ion implanter) 및 모니터로, 고화질 비디오 카메라와 광범위한 데이터 수집 기능을 갖춘 산업 규모의 생산에 적합합니다. 또한 품질 또는 성능을 저하시키지 않고 칩 제조 공정의 시간 (time) 과 자원을 절약할 수 있습니다.