판매용 중고 ULVAC SMI-60H #293647824
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판매
ID: 293647824
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Medium current hydrogen ion implanter, 12"
DI Water circulator
(2) Mass flow controllers
(20) Transfer particles: ±0.2 µm
Ion source head: H2+, 4He+
X-Ray leak rate: 0.6 µSv/h
Gas supply line:H2 / He Gas bottle
Vacuum pumping system:
EBARA AA10N Dry pump
SHIMADZU TMP803M Turbo molecular pump, 800 liter/sec
SHIMADZU TMP1003M Turbo molecular pump, 1000 liter/sec
Process chamber: SHIMADZU TMP3203M Turbo molecular pump, 3000 liter/sec
EBARA AA10N Dry pump Turbo molecular pump 300 liter/sec
Pirani vacuum gauge
Ionization vacuum gauge
End station (Transfer chamber / Process chamber)
Substrate size: 230mm x 180 mm x 0.7 mm
Vacuum transfer system: Vacuum transfer robot
Platen: ESC
Substrate scanning system: Y-Stage
ATM transfer robot
Clean unit
(2) Rorze RV201-F05-004-1 Foup Opener
Notch aligner: for 300 mm and 200 mm
Conversion kit for 200mm / 300mm:
Platen, cooling plate, L/L plate
Vacuum robot pick-up
Maximum beam current:
8mA at 60 keV at H2+
8mA at 35 keV at He+
Beam current stability: ≤±10 % / hour
Implant uniformity: ≤5％ (Distribution of peak depth)
Implant condition: H2+ , 60kV, 3.0E16 ions/cm
Measurement condition: SIMS 5piont (Within wafer)
Mass analyzing capability: H2+, 4He
Substrate size: 230 mm x 180 mm
Dose integrator capability: 1.0E15 –2.0E17 ions/cm²
Wafer tilt angle: 0 to 60° (±1°)
Metal contamination: Surface <5x1010/cm² (Fe, Ni, Cr, Zn, Cu by TXRF)
Implant condition: H2+ ,60keV, 3.0E16 ions/cm²
Ultimate pressure :
Ion Source: 6.7x10-4 Pa(5.0x10-6Torr)
Beam Line: 6.7 x 10-5 Pa(5.0x10-7Torr)
Process chamber: 6.7 x 10-5 Pa(5.0x10-7Torr)
Ion extraction system:
Extraction power supply
Extraction electrode
Beam focusing system:
Einzel-lens
Power supply
Mass analyzer magnet:
Deflection Coil Magnet, 90°
Power supply for magnet: 10V / 60A
Analyzing slit
Post acceleration system:
Acceleration tube
High voltage power supply
Beam focusing system:
Magnetic quadrupole lens
Power supply
Beam monitoring system:
Pre-amplifier
Dose monitor
Control system:
Computer
End-station / Pumping control: Sequencer
UPS For computer
Energy range:
30keV to 70keV (for H2+)
30keV to 35keV (for He+)
Spare parts: Ion source consumable parts
Power: 35~60keV
Dose: 1.0 x 10^15 ~ 2.0 x 10^17 H2+ions/cm²
Max RP: ~600 nm
Manuals included
2007 vintage.
ULVAC SMI-60H는 반도체 업계에서 사용되는 주요 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 제품은 시장에서 가장 높은 임플란테이션 정확도를 제공하는 고성능 도구입니다. 효율적인 고정밀 이온 임플란테이션 프로세스를 제공하도록 설계되었으며, 뛰어난 재현성과 최소한의 유지 보수가 필요합니다. SMI-60H는 고급 제어 및 가속 기술을 사용하여 최적의 이온 이식 프로세스를 제공합니다. 여기에는 빔 프로파일 (Beam Profile), 전기 및 자기장 (Magnetic Field) 을 선택할 때 최대 유연성이 가능한 최첨단 빔 형성 시스템이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 무시할 수없는 빔 조각으로 엄청나게 정확한 이식 결과를 가능하게합니다. 또한, 다양한 유형의 기판 및 임플란트에 다양한 유형의 이온을 사용할 수 있습니다. ULVAC SMI-60H의 사용자 인터페이스는 매우 직관적이고 사용하기 쉽습니다. 플레이어는 쉽게 다른 임플랜테이션을 위해 프로세스와 매개 변수를 빠르게 설정할 수 있습니다. 또한 최적의 이식 결과를 보장하기 위해 포괄적 인 재료 분석 기능이 제공됩니다. 또한, 포괄적인 모니터링 기능은 사용자가 프로세스를 최적화하고 프로세스 출력을 향상시키는 데 필요한 모든 정보를 갖도록 합니다 (영문). SMI-60H 는 또한 스마트 온도 조절 시스템 (Smart Temperature Control System) 과 함께 제공되어 기판을 최적의 처리 온도로 가열합니다. 이것은 기판에 열 손상의 잠재적 위험을 줄입니다. 또한, 이식 된 입자를 안정적이고 안전한 환경에서 유지하므로, 정확성을 보장합니다. ULVAC SMI-60H는 수많은 안전 시스템 (Safety System) 과 센서를 갖춘 최대한의 안전성과 신뢰성을 위해 설계되었습니다. 이를 통해 사용자는 걱정 없이 장치를 작동할 수 있으며, 디바이스 장애 발생 가능성을 최소화하면서 이온 (ion) 임플란테이션을 수행할 수 있습니다. 게다가, 이 장치는 효율성이 높도록 설계되었으며, 유연한 설정을 통해 프로세스 주기 (process cycle time) 를 단축하여 생산성을 극대화할 수 있습니다. SMI-60H는 매우 강력하고 안정적인 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 즉, 고급 기술과 기능을 활용하여 유지 보수가 최소화되어 정확하고 정확한 이식 (implantation) 프로세스를 수행할 수 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스 덕분에, 사용자는 다양한 임플랜테이션을 빠르고, 쉽게 설정하고, 결과를 모니터링할 수 있습니다. 종합적인 안전 시스템은 사용자 및 기판의 최대한의 안전을 보장합니다. 이러한 모든 기능과 기술은 ULVAC SMI-60H를 모든 반도체 산업에 이상적인 선택으로 만듭니다.
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