판매용 중고 SUMITOMO KC-200A09 #9375864

SUMITOMO KC-200A09 는 고성능 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터 장비로, 최신 이온 기술 발전에 맞춰 설계되었습니다. 첨단 기술 (Advanced Technology) 의 요구를 충족시키기 위해 특별히 설계 및 제작되었으며, 광범위한 이온 이온 이식 (ion implantation) 애플리케이션을 위한 효율적이고 효과적인 도구를 제공합니다. KC-200A09 (KC-200A09) 는 다양한 빔 전류 (beam current) 값으로 작동할 수 있으며, 사용자는 에너지 수준을 선택하고 용량이 어플리케이션에 가장 적합합니다. 고속 스캐닝 메커니즘과 향상된 디지털 신호 처리 (digital signal processing) 기능을 갖춘 이 시스템은 광범위한 이온 임플란테이션 (ion implantation) 기술을 위한 탁월한 정확성과 최대 유연성을 제공합니다. SUMITOMO KC-200A09에는 뛰어난 정확성과 안정성을 제공하는 독특한 듀얼 테이블 이온 소스 구성이 있습니다. 2 테이블 소스 디자인은 균일 한 이온 빔 균일성을 지원하며 높은 정확도를 제공합니다. 두 개의 독립적 인 액추에이터 신호 (actuator signal) 를 사용함으로써 샘플이 임플란테이션 테이블 (implantation table) 에 정확하고 정확하게 배치되도록 합니다. KC-200A09의 모니터 모듈은 향상된 빔 안정성과 정확성을 제공합니다. 개선 된 빔 앰프 회로 (beam amplifier circuit) 와 고급 빔 전달 장치 (advanced beam delivery unit) 를 사용하여 전체 범위의 이온 빔 매개변수를 정확하게 제어합니다. 또한 사용자가 특정 응용 프로그램의 빔 매개변수를 제어 및 조정하기 위해 사용하기 쉬운 GUI (Graphical User Interface) 를 제공합니다. 또한, SUMITOMO KC-200A09는 고급 제어 또는 모니터링 응용 프로그램을 위해 추가 컨트롤러와 인터페이스 할 수 있습니다. 컨트롤러를 이온 소스 (ion source) 및 모니터 (monitor) 모듈과 연결하여 유연성 및 고급 제어 기능을 강화할 수 있습니다. 전반적으로, KC-200A09는 고급 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터 머신으로, 광범위한 이온 임플란테이션 기술에 대한 탁월한 정확성과 최대 유연성을 제공합니다. 향상된 디지털 신호 처리 (Digital Signal Processing) 기능, 높은 정확도 포지셔닝 및 이중 테이블 (Dual-Table) 이온 소스 구성을 통해 향상된 빔 안정성과 정확성을 제공합니다. 또한 사용이 간편한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 및 컨트롤러 (컨트롤러) 옵션으로 향상된 제어 및 모니터링 기능이 제공됩니다.