판매용 중고 SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-90 #9144805

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-90은 반도체 장치를 만들기 위해 기판에 이온을 이식하는 데 사용되는 고급 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 장치는 최고의 입자 가속 방법을 사용하여 전하당 200 keV (200,000 eV) 의 속도까지 이온을 가속 할 수 있습니다. 이것은 최고의 정확도를 가진 우수한 양의 이온을 제공하는 데 도움이됩니다. 이 장치는 높은 처리 속도 (processing speed) 로 잘 알려져 있습니다. 따라서 이온을 더 높은 반복 속도로 임플란트 (implant) 할 수 있으므로 생산성 향상과 더 넓은 정밀도로 피쳐 크기를 더 잘 정의할 수 있습니다. 우수한 용량 균일성을 제공하는 챔버 내 열 차단 시스템이 있습니다. 이를 통해 장치 제어가 개선되고 이온 손상 사례가 줄어듭니다. 이 장치에는 새로운 고속 기능 추출 및 이온화 (HFEXI) 기술이 통합되어 이온 임플란트 성능을 향상시키고 열 구축 및 이온 범위 확산을 최소화합니다. 이것은 최종 결과가 개선 된 고도로 통제 된 이온 용량을 제공하는 데 도움이됩니다. 이 장치는 다중 전극 시스템에서 전자-전자 상호 작용을 설명하면서 최대 8 개의 양극성 전극을 제어 할 수 있습니다. 이것은 장치가 더 나은 이식 속도 (implanting speed) 와 더 나은 품질 (quality) 이온을 제공하는 것을 가능하게합니다. 이 장치는 또한 자동 모드, 프로그램 생성, 조그 모드, 데이터 로거, 이벤트 레코더, 용량 모니터, 시계, OCR 코딩 기능, 원격 제어, 원격 파일 전송, 레시피 관리 및 전력 중단과 같은 다양한 기능을 제공합니다. 이 모든 기능은 사용하기 쉽고, 안정적이며, 정확한 이식 성능을 제공하는 데 도움이 됩니다. 이 장치에는 3 방향 인터록 시스템, 결함 경보, 안전 추가를위한 비상 정지 등 여러 안전 기능이 있습니다. 이 옵션은 임플랜터를 모니터링하고 최적의 작동으로 유지합니다. SEN NV GSDIII-90 임플란트 및 모니터는 고성능 및 신뢰성으로 Best in Class Award와 같은 수많은 상을 수상했습니다. 또한 다양한 애플리케이션을 위한 비용 효율적인 고성능 (HPP) 구축을 위한 최적의 솔루션입니다. 광범위한 이식 작업을 수행할 수 있는 우수하고 신뢰할 수 있는 플랫폼을 제공합니다.