판매용 중고 SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 #9144965

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3은 고급 반도체 처리에 사용되는 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 저전류 (low current), 고해상도 (high resolution) 임플란테이션을 위해 설계되었으며 다양한 프로세스 단계 및 이온 소스의 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 시스템은 온도, 압력 제어, 에너지 변조, 빔 차단, 전류 통합 등 다양한 기능을 통합하여 최상의 프로세스 결과를 보장합니다. SEN NV-GSD-MC3는 70cm 제어실을 갖춘 20cm 잉고 소스 이온 임플란터이므로 광범위한 임플란트 매개변수 및 구현 기술을 사용할 수 있습니다. 얕은 접합 (shallow) 및 깊은 접합 (deep junction) 임플란팅을 생성하고 저전류 고해상도 임플란팅을 제공하는 데 사용할 수 있습니다. 이 장치에는 정확한 이온 용량 및 억제를 보장하는 디지털 이온 모니터가 포함되어 있습니다. 이 기계는 다양한 임플란트 매개변수 (Implant Parameter) 와 기술을 만드는 능력 외에도 고전압 전원 공급 장치 (High-Voltage Power Supply), 통합 질량 흐름 컨트롤러 (Integrated Mass Flow Controller), 온도 및 압력 제어 도구 (Pressure Control Tool) 를 갖추고 있습니다. 이를 통해 최고의 프로세스 안정성, 정확성, 최적의 임플란트 이식 (implantation) 프로세스가 가능합니다. 빔 분할 (beam splitting) 이나 산란 (scattering) 과 같은 다양한 빔 차단 기술이 구현되어 웨이퍼에 걸쳐 높은 균일성과 제어 가능한 에너지 분배가 유지됩니다. 자산은 또한 고급 알고리즘을 사용하여 플라즈마 (Plasma) 의 기체 동종 온도 분포를 제어합니다. 이는 프로세스 안정성과 생산성을 향상시키는 데 도움이됩니다. 또한, 모델은 여러 소스의 전류를 통합하고, 임플란트 빔을 디지털 이온 모니터 (digital ion monitor) 로 모니터링, 분석할 수 있습니다. SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3는 고급 임플란트 성능과 제어를 제공하기 위해 설계된 고급 이식 장비입니다. 얕은 접합 이식 (shallow and deep junction implantation), 저전류 고해상도 이식 (low-current high-resolution implanting) 등 다양한 응용 프로그램에 적합합니다. 이 시스템은 다양한 빔 차단 기술, 온도/압력 제어, 전류 통합 (current integration) 을 통해 최적의 프로세스 안정성과 정확성을 제공하도록 설계되었습니다.