판매용 중고 SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-80 #9268769

SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-80
ID: 9268769
웨이퍼 크기: 5"
Ion implanter, 5".
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-80은 이온 임플랜터 및 모니터 장비로, 반도체, 도자기 및 안경과 같은 재료에 이온을 임플란트하는 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 이 제품은 매우 높은 정확도와 성능을 갖추고 있으며, 지속적인 모니터링과 서브미크론 (sub micron) 기능을 정확하게 제어해야 하는 애플리케이션에 적합합니다. 이 시스템은 이온 원 (ion source) 을 사용하여 하전 된 원자 또는 분자를 생성하고, 그 후 전기장에 의해 물질에 이식되어 미세 (micro-features) 가 형성된다. 그 후, 전자 현미경 및 기타 기기가 서브 미크론 (sub-micron) 특징을 측정하는 데 사용되는 모니터링 과정이 뒤 따릅니다. 이 데이터는 이식 매개변수를 조정하고 성능을 최적화하는 데 사용됩니다. SEN NV GSD-80은 최대 빔 전류 80mA 및 고정 빔 에너지 2.5keV를 갖춘 고성능 이온 임플랜터를 갖추고 있습니다. 여기에는 X-Y 조작기가 포함되어 있으며, 이 조작기를 사용하여 두 축을 따라 빔을 독립적으로 조정할 수 있습니다. 또한 자동 웨이퍼 전송 장치 (wafer transport unit) 가 있으며 웨이퍼를 배치하고 로드하는 데 사용됩니다. 기계의 모니터 장치 (monitor unit) 에는 이식 공정의 결과를 측정하고 모니터링하는 일련의 기기와 센서가 있습니다. 그것은 패러데이 컵, 광 다이오드 검출기, 충격 이온화 검출기를 포함한 여러 검출기뿐만 아니라, 서브 미크론 기능을 검사하기위한 전자 현미경 도구를 가지고 있습니다. 또한 빔 제어 에셋 (beam control asset) 이 있으며, 이식 공정의 결과를 최적화하기 위해 빔 전류 (beam current), 빔 크기 (beam size) 및 빔 위치 (beam position) 를 조정하는 데 사용할 수 있습니다. 이 모델에는 이식 전후 물질의 원소와 동위 원소를 분석하기위한 입자 질량 분광계 (particle mass spectrometer) 도 포함되어 있습니다. 또한 물질의 구성 및 기타 화학 및 물리적 특성을 분석하기위한 에너지 분산 분광계 (energy dispersive spectrometer) 도 포함되어 있습니다. 이 장비에는 디지털 제어 장치 (digital control unit) 가 장착되어 있는데, 이를 통해 사용자는 빔 전류 (beam current), 임플란테이션 깊이 (implantation depth), 빔 에너지 (beam energy) 와 같은 다양한 매개변수를 조정할 수 있습니다. 또한 컴퓨터 및 기타 네트워크에 접속하기 위한 네트워크 인터페이스 (network interface) 가 있어 원격 액세스 (remote access) 및 시스템 제어가 가능합니다. 전체적으로 SUMITOMO EATON NOVA NV GSD 80은 높은 정확도와 성능을 가진 재료에 이온을 이식하도록 설계된 고급 장치입니다. 고성능 이온 임플란터 (Ion Implanter), 전자 현미경 (Electron Microscope), 이식 과정 결과를 모니터링하는 데 사용되는 다수의 검출기 및 센서가 특징입니다. 또한 다양한 매개변수를 조정하기 위한 디지털 제어 장치 (Digital Control Unit) 와 원격 액세스 및 제어가 가능한 네트워크 인터페이스 (network interface) 가 있습니다.
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