판매용 중고 SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV 10SD-80 #9268760

SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV 10SD-80
ID: 9268760
웨이퍼 크기: 6"
Ion implanter, 6".
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV 10SD-80은 반도체 산업에서 사용되는 최첨단 이온 임플란터 및 모니터입니다. 입자와 이온을 도체 기판에 이식하고 성능을 모니터링하기위한 고정밀 제어를 제공합니다. 다양한 연구 개발 애플리케이션을위한 이상적인 도구입니다. NOVA SEN NV 10SD-80은 설치와 사용이 간편한 전체 기능의 이온 임플란터 및 모니터입니다. 최대 가속 전압 (80 kV) 까지 이온 임플란테이션을 수행 할 수있는 통합 100mm 팔각형 진공 챔버가 제공됩니다. 이 장비는 또한 최첨단 이온 광학 시뮬레이터를 통합하여 임플랜터 (implanter) 와 모니터의 성능을 정확하게 모델링합니다. SUMITOMO EATON NOVA NV-10SD-80의 사용자 친화적이고 직관적인 제어 시스템을 사용하면 이식 작업을 정확하고 빠르게 프로그래밍 할 수 있습니다. 이 장치에는 강력한 소프트웨어 프로그램 (Software Program) 이 포함되어 있으므로 사용자는 간단한 작업에서 복잡한 기능에 이르는 이식 프로세스를 제어 할 수 있습니다. 이 소프트웨어에는 효율적인 데이터 관리를 위한 유연한 데이터 로깅 시스템도 포함되어 있습니다. 이 도구는 임플란테이션 정확도와 입자 안정성을 최적화하는 고급 기능 세트를 제공합니다. 여기에는 기판 내에서 균일하게 분산 된 이식 (implantation) 에 대한 임플란트의 정확한 크기를 측정 할 수있는 고정밀 슬릿 스캐닝 (high-precision slit scanning) 이 포함됩니다. 또한 조정 가능한 이식 속도 (implantation rate) 와 조정 가능한 로드 및 언로드 설정 (loading and unloading settings) 에 대한 가변 펄스 너비를 제공하여 다양한 조건에서 균일 한 이식 기능을 제공합니다. SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-10SD-80은 또한 기판 위의 임플란테이션의 균일성을 측정하고 모니터링하도록 설계된 높은 정확도의 4 방향 조정 가능한 조리개 스캐닝 자산을 통합합니다. 이 모델은 또한 특정 이식 조건에 맞춘 다양한 상공 회의소 (chamber baffle) 를 제공합니다. 자동화된 진공제어 (vacuum control) 및 안전 (safety) 기능을 통해 임플란트의 과압 및 오염으로부터 장비를 보호할 수 있습니다. NV-10SD-80 의 고급 모니터링 기능을 통해 사용자는 이식 프로세스를 실시간으로 관찰하고 측정할 수 있습니다. 디지털 디스플레이 (Digital Display) 와 컨트롤 컴퓨터 (Control Computer) 를 통해 보다 효율적인 작업 흐름을 위해 자동화된 피드백을 제공할 수 있습니다. 이 시스템의 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 사용자는 임플란테이션 프로세스를 신속하게 이해하고 제어할 수 있습니다. 전체적으로 SUMITOMO EATON NOVA NV 10SD-80은 고급적이고 강력한 이온 임플란터 및 모니터로, 컨덕터 기판에 입자와 이온을 임플란트하고 성능을 모니터링하는 고정밀 컨트롤을 제공합니다. 이 제품은 다양한 연구 개발 (R&D) 애플리케이션을 위한 안전하고 효율적인 플랫폼을 제공합니다.
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